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公开(公告)号：CN117754474A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311841802.0
申请日：2023-12-28
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明提供了一种基于磨粒浓度差异分布的磨料研磨盘及其制作方法，涉及研磨抛光技术领域。包括如下步骤：S1、制备金属基盘；S2、基于工件表面质量均匀性模型计算研磨盘在不同区域磨块的磨粒浓度，确定磨块的配方，并制备出不同磨粒浓度的磨块；S3、将制备好的不同磨粒浓度的磨块按照设计粘贴在金属基盘相应位置，完成磨块磨粒浓度差异化分布的研磨盘制作；S4、将制作好的研磨盘安装到相应研磨机床。通过本发明方案可以有效提升研磨加工工件表面质量均匀性及产品的一致性。
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