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公开(公告)号:CN114659474B
公开(公告)日:2023-05-26
申请号:CN202210240436.2
申请日:2022-03-10
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明实施例提供一种研磨盘平面度的检测方法、装置、设备和存储介质,涉及平面度测量技术领域。其中,这种检测方法包含步骤S1至步骤S5。S1获取研磨盘的N条径向测量数据。S2分别消除N条径向测量数据的机械误差,以获得N条初始数据。S3根据N条初始数据,分别将各个磨块的高度信息均值化,并删除非磨块的高度信息,以获得N条磨块表面高度数据。S4分别缩放N条磨块表面高度数据至相同的数据长度,然后计算平均值,以获得磨盘径向高度数据。S5根据磨盘径向高度数据进行三维重构,以获得研磨盘的面型模型。采用本发明的检测方法能够根据测量到的高度数据快速计算得到研磨盘的表面模型,从而快速识别研磨盘的平面度,具有很好的实际意义。
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公开(公告)号:CN114659474A
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN202210240436.2
申请日:2022-03-10
Applicant: 华侨大学
Abstract: 本发明实施例提供一种研磨盘平面度的检测方法、装置、设备和存储介质,涉及平面度测量技术领域。其中,这种检测方法包含步骤S1至步骤S5。S1获取研磨盘的N条径向测量数据。S2分别消除N条径向测量数据的机械误差,以获得N条初始数据。S3根据N条初始数据,分别将各个磨块的高度信息均值化,并删除非磨块的高度信息,以获得N条磨块表面高度数据。S4分别缩放N条磨块表面高度数据至相同的数据长度,然后计算平均值,以获得磨盘径向高度数据。S5根据磨盘径向高度数据进行三维重构,以获得研磨盘的面型模型。采用本发明的检测方法能够根据测量到的高度数据快速计算得到研磨盘的表面模型,从而快速识别研磨盘的平面度,具有很好的实际意义。
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公开(公告)号:CN216846147U
公开(公告)日:2022-06-28
申请号:CN202220535579.1
申请日:2022-03-10
Applicant: 华侨大学
IPC: G01B11/30
Abstract: 本实用新型提供了一种平面度检测装置,涉及平面度测量装置技术领域。这种平面度检测装置包含旋转定位组件、直线位移组件和测量组件。旋转定位组件包括用以接合于研磨设备的固定座,以及可转动的安装在固定座的旋转座。直线位移组件接合于旋转定位组件和测量组件之间,用以驱动测量组件沿着预定轨迹移动。测量组件包括接合于滑台的夹紧底座、接合于底座的夹紧件,以及夹持于夹紧底座和夹紧件之间的检测件。其中,检测件用以检测被测物体的距离。旋转定位组件能够让平面度检测装置在工作位置和收纳位置之间进行切换,直线位移组件能够让测量组件沿着预定轨迹进行活动,以测量预定轨迹上的高度数据,以得到研磨盘的平面度,效率更高。
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