公开(公告)号：CN106910580B

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201710294910.9

申请日：2017-04-28

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 方志 ,  苗传润 ,  张波 ,  王乾 ,  刘峰

IPC: H01B19/04

Abstract: 本发明提出的是一种绝缘子表面等离子体憎水性改性一体化处理方法，其特征是包括以下步骤：（1）绝缘子表面等离子体清洁处理；（2）绝缘子表面等离子体憎水性改性处理。本发明的优点：1）提高了绝缘子表面憎水改性的处理效率和处理效果；2）实现了快速的绝缘子表面干式清洁，提高了憎水性成分与绝缘子表面的结合强度；3）提高了绝缘子表面憎水性能，尤其是在强电场、和光照环境中表面憎水性的稳定性和持久性；4）满足了一体化的绝缘子表面憎水改性处理需求；提高了绝缘子表面等离子体憎水性改性工艺的连续性、稳定性和均匀性；提高了整体工艺的环境友好性。

公开(公告)号：CN106910580A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201710294910.9

申请日：2017-04-28

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 方志 ,  苗传润 ,  张波 ,  王乾 ,  刘峰

IPC: H01B19/04

CPC classification number: H01B19/04

Abstract: 本发明提出的是一种绝缘子表面等离子体憎水性改性一体化处理方法，其特征是包括以下步骤：（1）绝缘子表面等离子体清洁处理；（2）绝缘子表面等离子体憎水性改性处理。本发明的优点：1）提高了绝缘子表面憎水改性的处理效率和处理效果；2）实现了快速的绝缘子表面干式清洁，提高了憎水性成分与绝缘子表面的结合强度；3）提高了绝缘子表面憎水性能，尤其是在强电场、和光照环境中表面憎水性的稳定性和持久性；4）满足了一体化的绝缘子表面憎水改性处理需求；提高了绝缘子表面等离子体憎水性改性工艺的连续性、稳定性和均匀性；提高了整体工艺的环境友好性。