一种高纯石英陶瓷料浆的制作方法

    公开(公告)号:CN104891971A

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201510260933.9

    申请日:2015-05-20

    Inventor: 司继成 周佟 唐倩

    Abstract: 本申请公开了一种高纯石英陶瓷料浆的制作方法,通过选取尺寸为40~80mm的废品太阳能石英坩埚碎片;经过酸溶液进行酸洗除污、用清水清洗、干燥、两次球磨,得到高纯度料浆。由此,将太阳能行业的废品坩埚得以利用起来,将石英坩埚碎片拣选、酸洗、清洗、干燥、粉碎球磨后,得到SiO2含量超过99.90%的高纯料浆。

    观测石英玻璃坩埚透明层中气泡的装置

    公开(公告)号:CN104730087A

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201510111215.5

    申请日:2015-03-16

    Inventor: 司继成 刘百明

    Abstract: 本发明公开了一种观测石英玻璃坩埚透明层中气泡的装置,辅助平台基座上设置石英坩埚放置平台,垂直固定导轨固定连接在基座的一侧,水平活动导轨连接在垂直固定导轨上,水平活动导轨前端与垂直活动导轨相连,垂直活动导轨的下端装有连接杆,连接杆插入与之相匹配的电动镜头支架内,变焦镜头装配在电动镜头支架上;变焦镜头通过光纤与计算显示器连接,电动镜头支架通过电缆与计算显示器连接。本发明有以下优点:能准确测量石英玻璃坩埚透明层内微气泡数量、体积等;测量过程不会对石英坩埚造成污染和破坏;可以通过辅助平台的三维调节观测石英玻璃坩埚内部透明层的任意位置。

    一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法

    公开(公告)号:CN104150755B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201410384473.6

    申请日:2014-08-07

    CPC classification number: C03B20/00

    Abstract: 本发明公开一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法,其中石英坩埚内表面1mm深度内的微气泡体积密度(气泡体积/总体积×100%)低于0.0005%;该方法包括在石英坩埚熔制过程中通入氢气、氮气、氦气、氩气或其他惰性气体中的一种气体或几种混合气体,取代石英砂颗粒间残留的空气,对石英玻璃坩埚内表面再熔融精细化处理,去除气泡空乏层中包裹的微气泡,并且能够抑制残留的微气泡在坩埚高温使用过程中的膨胀现象。用此方法制备的石英坩埚能够长时间承受连续高温的特点,足可满足单晶厂家多次投料、拉制单晶的需求。

    一种石英陶瓷坩埚的制作方法

    公开(公告)号:CN104891970A

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201510259440.3

    申请日:2015-05-20

    Inventor: 司继成 周佟 唐倩

    Abstract: 本申请公开了一种石英陶瓷坩埚的制作方法,通过将熔融石英块料及熔融石英陶瓷毛坯回收料作为原料制作料浆,并经过浇注、烘干、烧结工序制作成石英陶瓷坩埚,之后再用等离子体发生器进行内表面热处理的方法,使熔融石英陶瓷内表面能形成一层石英玻璃层,使内表面更加光滑。由此,通过将石英陶瓷坩埚制作工艺过程中产生的废品重新作为原料使用,节省了成本,达到了资源再利用。

    一种激光修补石英坩埚的装置

    公开(公告)号:CN104609706A

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201510083253.4

    申请日:2015-02-15

    Inventor: 司继成

    CPC classification number: C03C23/0025 C03B20/00

    Abstract: 本申请公开了一种激光修补石英坩埚的装置,包括激光装置和送料装置,激光装置包括壳体和设于壳体内的CO2激光发生器,壳体设有激光出口;送料装置包括料斗和连通料斗出口的送料管,料斗设于壳体;由此,利用激光熔融石英坩埚的污点,使其气化,再填充石英砂,利用激光熔融修补,来达到修补石英坩埚的污点,使其达到合格的要求,成本低,使用方便。

    一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法

    公开(公告)号:CN104150755A

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201410384473.6

    申请日:2014-08-07

    CPC classification number: C03B20/00

    Abstract: 本发明公开一种重复多次拉制单晶硅用石英坩埚及其制造方法,其中石英坩埚内表面1mm深度内的微气泡体积密度(气泡体积/总体积×100%)低于0.0005%;该方法包括在石英坩埚熔制过程中通入氢气、氮气、氦气、氩气或其他惰性气体中的一种气体或几种混合气体,取代石英砂颗粒间残留的空气,对石英玻璃坩埚内表面再熔融精细化处理,去除气泡空乏层中包裹的微气泡,并且能够抑制残留的微气泡在坩埚高温使用过程中的膨胀现象。用此方法制备的石英坩埚能够长时间承受连续高温的特点,足可满足单晶厂家多次投料、拉制单晶的需求。

    一种制作低氧坩埚的方法

    公开(公告)号:CN102373502A

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN201010262307.0

    申请日:2010-08-25

    Abstract: 本发明公开了一种低氧坩埚生产方法,工艺步骤为在电极放电,石英砂融化成型后,坩埚内壁的温度一般在1300~2000度左右,然后通过一个送气装置,向坩埚内壁均匀吹入高纯度的氮气,氮气与石英砂中的硅在高温下反应生成氮化硅膜,成为一层保护介质。本发明可以阻止坩埚里的氧成分扩散到原材料中,同时可以形成一层高强度的保护膜,增加石英坩埚的强度,减少高温软化现象。

    一种大尺寸石英玻璃碇的制备方法

    公开(公告)号:CN105314825A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201410367075.3

    申请日:2014-07-30

    Abstract: 本发明公开一种大尺寸石英玻璃碇的制备方法,其中采用氢气吸入法掺入低压乙炔气来提高火焰温度,取代传统气炼法制备石英玻璃碇的氢氧焰。石英粉料进入火焰高温区,喷洒到石英玻璃靶材上,通过石英靶材的匀速旋转和缓慢下降,使靶面始终处于火焰的高温区,从而使石英粉料不断熔化,在经过冷却成为实心的石英玻璃碇。本发明所制备的石英玻璃碇具有纯度高、羟基含量低、耐温性能好等特点,可广泛用于各种高性能石英制品领域。

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