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公开(公告)号:CN1151024C
公开(公告)日:2004-05-26
申请号:CN00800109.X
申请日:2000-01-31
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1632 , Y10T29/49083 , Y10T29/49401
Abstract: 将一打印头基底放在螺旋波干蚀刻系统的工作台上,该打印头基底具有一个其上形成有热产生元件和隔板的硅基底和一个粘附于该隔板上的喷孔板。在通过允许冷却剂气体通入该基底和该工作台之间而对该打印头基底进行冷却的过程中,进行螺旋波干蚀刻。这便允许即使将一两面均粘附有粘合层的薄膜板作为喷孔板,也可同时并迅速在喷孔板中钻出多个具有理想的适当形状的喷孔,从而提高了工作效率。
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公开(公告)号:CN1310668A
公开(公告)日:2001-08-29
申请号:CN00800971.6
申请日:2000-05-23
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 镰田英树
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/14072 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1645 , B41J2/1646
Abstract: 每个加热元件包括一个加热电阻器(24)和一个公用电极(21)和一个个体电极(23),所述电极(21,23)被形成在所述加热电阻器(24)的端部,所以加热电阻器(24)的加热区域(25)被暴露。一个屏蔽层(41)覆盖电极(21,23),所以,电极没有暴露于在油墨流动通道内流动的油墨,也就是说,不仅电极(21,23)的上表面,而且侧边也被屏蔽层(41)所覆盖。屏蔽层(41)由单原子金属、氧化物、抗腐蚀的非晶体合金组成,所述单原子金属例如是钽和钛,所述非晶体合金例如是钛-氮、钛-钽或类似的合金。屏蔽层(41)的厚度为10~1000nm,可以通过化学镀方法或类似方法制成屏蔽层(41)。屏蔽层(41)是有效的,不仅阻止腐蚀,也阻止作为表面侵蚀的迁移。
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公开(公告)号:CN1293619A
公开(公告)日:2001-05-02
申请号:CN00800109.X
申请日:2000-01-31
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1632 , Y10T29/49083 , Y10T29/49401
Abstract: 将一打印头基底放在螺旋波干蚀刻系统的工作台上,该打印头基底具有一个其上形成有热产生元件和隔板的硅基底和一个粘附于该隔板上的喷孔板。在通过允许冷却剂气体通入该基底和该工作台之间而对该打印头基底进行冷却的过程中,进行螺旋波干蚀刻。这便允许即使将一两面均粘附有粘合层的薄膜板作为喷孔板,也可同时并迅速在喷孔板中钻出多个具有理想的适当形状的喷孔,从而提高了工作效率。
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公开(公告)号:CN1155474C
公开(公告)日:2004-06-30
申请号:CN00800971.6
申请日:2000-05-23
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 镰田英树
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/14072 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1645 , B41J2/1646
Abstract: 每个加热元件包括一个加热电阻器(24)和一个公用电极(21)和一个个体电极(23),所述电极(21,23)被形成在所述加热电阻器(24)的端部,所以加热电阻器(24)的加热区域(25)被暴露。一个屏蔽层(41)覆盖电极(21,23),所以,电极没有暴露于在油墨流动通道内流动的油墨,也就是说,不仅电极(21,23)的上表面,而且侧边也被屏蔽层(41)所覆盖。屏蔽层(41)由单原子金属、氧化物、抗腐蚀的非晶体合金组成,所述单原子金属例如是钽和钛,所述非晶体合金例如是钛-氮、钛-钽或类似的合金。屏蔽层(41)的厚度为10~1000nm,可以通过化学镀方法或类似方法制成屏蔽层(41)。屏蔽层(41)是有效的,不仅阻止腐蚀,也阻止作为表面侵蚀的迁移。
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