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公开(公告)号：CN118476327A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202280085213.1
申请日：2022-12-20
Applicant: 卢森堡科学技术研究院
IPC: H10N30/078 , H10N30/853 , H10N30/00
Abstract: 公开了用于制造具有PZT材料的厚膜(10)的MIM结构体的工艺，其中，通过交替沉积PZT浆料(10.1)和PZT溶液(10.2)，将PZT材料沉积在基板(2、4、6、8)上。此外，公开了包含用这样的工艺制造的MIM致动器的触觉设备。
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