基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN102798930A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201210332492.5

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

    基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN102798930B

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201210332492.5

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

    一种基于全息干涉术的光子晶体制造装置

    公开(公告)号:CN202794592U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220456025.9

    申请日:2012-09-07

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。

Patent Agency Ranking