-
公开(公告)号：CN113376097A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110637916.8
申请日：2021-06-08
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种纳米级银针尖的高重现性制备方法，涉及STM‑TERS银针尖的电化学刻蚀制备方法。1)待刻蚀银丝前处理：刻蚀用银丝在使用前需要用硼氢化钠溶液浸泡，以除去表面氧化层；2)电化学刻蚀装置选择：刻蚀装置选用两电极体系和三电极体系；3)银丝的电化学刻蚀：选择合适的刻蚀剂和刻蚀条件对银丝进行电化学刻蚀，到达刻蚀终点时及时切断电路，银丝末端形成尖锐光滑的针尖，即得纳米级银针尖。硫氰酸钾刻蚀剂无毒无害，制备的纳米级银针尖表面光滑，末端尖锐，纳米级银针尖的曲率半径在100nm以下，具有STM‑TERS增强活性。不仅可用于STM成像，还可用于TERS测试，具有高成像质量和高TERS活性。
Search Results
1
records
(took 0.017 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
