一种双层手性结构的制备方法

    公开(公告)号:CN109490998B

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN201811490968.1

    申请日:2018-12-07

    Abstract: 本发明涉及微纳结构制备领域,具体涉及一种双层手性结构的制备方法,主要制备步骤包括准备玻璃基底、甩胶、曝光、显影定影、蒸镀金属材料和剥离光刻胶。该制备双层手性结构的方法只需要曝光一次,蒸镀一次就可以得到双层结构,并且上下层间距也可以在蒸镀过程中进行调节。该制备方法简便易操作,制备的双层结构精确度高。

    一种多孔取向性PLGA静电纺丝纤维及其制备方法

    公开(公告)号:CN115094529A

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202210813900.2

    申请日:2022-07-11

    Abstract: 本发明公开了一种多孔取向性PLGA静电纺丝纤维及其制备方法,制备方法包括如下步骤:根据PLGA的质量百分含量为5‑15%将PLGA溶于体积比为(5‑7):1的DCM和DMF的混合溶剂中,常温搅拌至PLGA完全溶解,得到PLGA溶液;对PLGA溶液进行静电纺丝处理,即得到多孔取向性PLGA静电纺丝纤维,滚轮收集器的转速为1500‑2500rpm。本申请的多孔取向性PLGA静电纺丝纤维的制备方法中采用的特定体积比的DCM和DMF混合溶剂可获得具有多孔结构的PLGA静电纺丝纤维,特定的滚轮收集器的转速可获得取向度较大的PLGA静电纺丝纤维,最终获得多孔取向性PLGA静电纺丝纤维。

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