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公开(公告)号：CN118288884A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202211705001.7
申请日：2022-12-28
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本公开提供了一种采样车，包括：车身主体，车身主体内形成操作空间；至少一个隔板，隔板与车身主体的顶壁和侧壁协作围成采样舱，采样舱的至少一个隔板上设置有第一采样装置，每个隔板包括：至少一个支撑板，包括四个边缘；多个支撑框架，分别安装至每个支撑板的边缘，每个支撑框架具有四边形的截面，每个支撑框架的每个侧面上设有适用于容纳支撑板的一个边缘的至少一个安装槽，且位于相对的两个侧面上的安装槽之间的结合部间隔设置有多个贯穿孔；以及多个连接组件，被构造成分别通过贯穿孔将两个相邻的支撑框架连接在一起。
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公开(公告)号：CN118130514A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410361784.4
申请日：2024-03-27
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/046 , G01L5/00
Abstract: 本发明提供一种检查设备，包括：承载框架、检查装置和压力检测部；检查装置安装于所述承载框架内部，所述检查装置被配置为向待检查对象发出辐射射线，以获得所述待检查对象的扫描图像；压力检测部与所述承载框架连接，其中，所述压力检测部包括N个检测机构，N个所述检测机构用于检测所述承载框架在N个位置施加的压力值，N为大于或等于1的整数。本发明的检查设备，承载框架的底部设置有多个检测机构，检测机构用于检测承载框架对应位置的压力值，基于压力值便于对承载框架受力较大的区域及时采取措施，使得承载框架整体受力均衡，进而避免与检查设备接触的地面受损，保障检查设备的可靠运行。
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公开(公告)号：CN107783201B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN201711008514.1
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01V5/22
Abstract: 本发明涉及一种光机屏蔽罩及安检设备，光机屏蔽罩包括：框架本体，框架本体具有容纳腔、端部开口及射线出口，容纳腔用于容纳光机，射线出口用于透过光机发出的射线；端部罩体，端部罩体设置于端部开口处，具有与容纳腔相通的密闭腔；和转接部件，转接部件设置于端部罩体与框架本体之间并且具有使密闭腔与容纳腔连通的开孔，转接部件将端部罩体可移动地连接于框架本体，以调节端部罩体至端部开口的距离。本发明实施例提供光机屏蔽罩及安检设备，能够对光机产生的无用的射线进行有效的屏蔽，避免对人体造成伤害，同时不会对光机本身造成损伤。
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公开(公告)号：CN107807405B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN201711008509.0
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V8/20
Abstract: 本发明涉及一种探测装置，用于扫描成像设备，其包括：支座，支座具有弧形基面；后准组件，后准组件通过第一导轨滑动设置在支座上，以使后准组件能够相对于支座沿弧形基面的轴向进行直线运动；探测器组件，探测器组件通过第二导轨滑动设置在后准组件上，以使探测器组件能够相对后准组件沿弧形基面的轴向进行直线运动。本发明实施例探测装置包括的后准组件和探测器组件的位置均可根据实际应用要求进行调整，以使后准组件、探测器组件和光路对准，提高探测精度。
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公开(公告)号：CN117518284A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311490089.X
申请日：2023-11-09
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 提供一种基于单一直线扫描通道的CT扫描成像系统，该系统包括：传送装置，用于使扫描对象在单一直线扫描通道中沿预定的传送方向移动；多个扫描段，每个扫描段包括多个射线源和至少一个探测器，多个扫描段沿传送方向间隔布置，在每个扫描段中，多个射线源用于交替发出射线束以形成扫描区域，多个射线源位于扫描通道的一侧，且依次间隔布置；至少一个探测器位于扫描通道的另一侧，用于探测在扫描对象穿过扫描区域的过程中，射线束透过扫描对象后形成的投影数据；成像装置，根据多个扫描段中各个探测器探测到的投影数据，生成扫描对象的三维重建图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108447577B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN201810438310.X
申请日：2018-05-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，该屏蔽帘防护装置包括：屏蔽帘轨道，为回转轨道；两个以上的屏蔽帘组件在屏蔽帘轨道的延伸方向上相互间隔设置于屏蔽帘轨道，并能够沿屏蔽帘轨道移动；所述屏蔽帘组件包括卷帘轴和连接在卷帘轴上的屏蔽帘，卷帘轴能够自转，以使屏蔽帘在卷帘轴上能够在收卷状态与展开状态之间切换。本发明公开的屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，能够消除待测物品进出检测设备的相对阻力，减少屏蔽帘与待测物品之间的摩擦，并提高屏蔽效果，同时实现屏蔽帘的有效固定，显著的降低加工难度，提高加工效率，且避免屏蔽帘发生下垂，进一步提高屏蔽效果，以及能够提高检测设备的安全性能和使用寿命。
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公开(公告)号：CN115144916A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202110344167.X
申请日：2021-03-30
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V5/00
Abstract: 提供一种射线检查设备和检查目标的方法。射线检查设备包括：支撑框架，支撑框架内形成适用于检查目标的检查空间，检查空间具有与外部连通的入口和出口；传输通道，适用于承载所述目标穿过检查空间移动；第一屏蔽门帘和第二屏蔽门帘，分别安装在入口和出口处；以及驱动机构，安装在支撑框架上，并被构造成响应于目标靠近或者离开入口和出口中的至少一个，驱动所述第一屏蔽门帘和第二屏蔽门帘中的至少一个移动，以打开或者关闭所述入口或者出口中的所述至少一个。由于驱动机构可以根据目标靠近或者离开屏蔽门帘事件的发生，驱动屏蔽门帘的升降，可以确保重量较轻的目标能够顺利进入到检查空间中以进行后续的射线扫描接触。
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公开(公告)号：CN112084809A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201910504962.3
申请日：2019-06-12
Applicant: 同方威视科技江苏有限公司 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开涉及安全检测技术领域，提出了一种承载机构、安检系统、方法及存储介质和电子设备。承载机构用于放置经安检装置安检后的待检测物品，安检装置用于确定待检测物品的嫌疑等级，嫌疑等级至少包括第一嫌疑等级和第二嫌疑等级，承载机构包括：承载平台，承载平台用于放置待检测物品；指示部，指示部设置在承载平台上，指示部用于提示位于承载平台上的待检测物品的嫌疑等级。本承载机构由于各种嫌疑等级的待检测物品均可以放置在承载平台上，即不用设置不同的平台放置不同嫌疑等级的待检测物品，整个结构较为简单，而且能够实时提醒各种嫌疑等级。
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公开(公告)号：CN105445288B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201410443176.4
申请日：2014-09-02
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
CPC classification number: G01V5/0066 , G01V5/0016
Abstract: 本发明公开了一种新型组合移动式检查系统，该组合移动式检查系统包括：机架；安装于机架的、用于产生射线的射线源；大致倒L形的探测器梁，该探测器梁包括水平探测器梁和与水平探测器梁的一端连接的竖直探测器梁；用于接收射线源发出的射线的多个探测器，所述多个探测器设置在水平探测器梁和竖直探测器梁中的至少一个上；以及驱动装置，设置在所述机架上，与水平探测器梁的另一端连接，用于驱动探测器梁围绕竖直轴线转动，并且射线源与探测器梁同步转动。通过采用局部高分辨率扫描功能，强化对被检测物品的分析能力。
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公开(公告)号：CN107727670A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201711008503.3
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/00
CPC classification number: G01N23/00
Abstract: 本发明涉及一种扫描成像设备，其包括：固定支架；探测装置，设置于固定支架，探测装置通过固定支架支撑于安装基面上，探测装置包括水平调整组件和升降调整组件，探测装置通过水平调整组件调整位置以保持水平状态，探测装置通过升降调整组件作升降运动以沿竖直方向调整位置；位置标定装置，设置于固定支架，位置标定装置与探测装置相连接；其中，探测装置作升降运动调整自身位置后，通过位置标定装置标定当前位置是否仍保持于水平状态。本实施例的扫描成像设备包括的探测装置在完成水平方向上的位置调整，再在竖直方向上调整位置后，通过位置标定装置可以标定出探测装置的当前状态是否仍保持调整前的水平状态，标定过程简单快速，省时省力。
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