低温晶化的BZT-BCT压电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103922735B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201410154935.5

    申请日:2014-04-17

    Abstract: 低温晶化的BZT-BCT压电薄膜的制备方法,它涉及一种Ba系压电薄膜的制备方法。本发明的目的是为了解决现有Ba系压电薄膜材料晶化温度过高,不利于节能和与大面积Si集成使用的技术问题,本方法如下:制备溶液F,溶胶E;制备溶胶D;制备钛酸铅镧钙溶胶;制备锆钛酸钡钙溶胶;在基底上制备种子层薄膜,在种子层薄膜上旋转涂覆锆钛酸钡钙溶胶,热分解,晶化处理,即得。本发明的BZT-BC压电薄膜在700℃晶化处理下生成钙钛矿结构,表现出较为优良压电性能。通过PLCT种子层的引入,在500℃的低温晶化下的BZT-BCT压电薄膜也生成了钙钛矿结构,表现出同样的优良的压电性能。本发明属于压电薄膜的制备领域。

    低温晶化的BZT-BCT压电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103922735A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201410154935.5

    申请日:2014-04-17

    Abstract: 低温晶化的BZT-BCT压电薄膜的制备方法,它涉及一种Ba系压电薄膜的制备方法。本发明的目的是为了解决现有Ba系压电薄膜材料晶化温度过高,不利于节能和与大面积Si集成使用的技术问题,本方法如下:制备溶液F,溶胶E;制备溶胶D;制备钛酸铅镧钙溶胶;制备锆钛酸钡钙溶胶;在基底上制备种子层薄膜,在种子层薄膜上旋转涂覆锆钛酸钡钙溶胶,热分解,晶化处理,即得。本发明的BZT-BC压电薄膜在700℃晶化处理下生成钙钛矿结构,表现出较为优良压电性能。通过PLCT种子层的引入,在500℃的低温晶化下的BZT-BCT压电薄膜也生成了钙钛矿结构,表现出同样的优良的压电性能。本发明属于压电薄膜的制备领域。

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