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公开(公告)号：CN108474116A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680075297.5
申请日：2016-12-19
Applicant: 因特格拉斯技术股份公司
Inventor： 罗曼·阿尔内特 , 丹尼尔·彼得罗夫斯基 , 卢茨·克尔纳
IPC: C23C16/458 , C23C16/50 , H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种用于对透镜覆层的真空覆层设施，所述真空覆层设施包括真空室，具有一个或多个电极(16)的电极支架(14)和具有一个或多个用于容纳各一个透镜(19)的透镜保持器(17)的透镜保持器容纳部(18)。每个透镜(19)都分配有单独的电极(16)。电极(16)的与透镜(19)相对置的表面是弯曲的面。(多个)电极(16)的表面的曲率在外部区域(8)中能够比在内部区域(9)中更大。在电极(16)和所分配的透镜(19)之间的间距能够是可调节的。
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