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公开(公告)号:CN1646214A
公开(公告)日:2005-07-27
申请号:CN03808177.6
申请日:2003-01-24
Applicant: 埃克森美孚化学专利公司
CPC classification number: B01J19/088 , B01J8/42 , B01J2208/00734 , B01J2219/00252 , B01J2219/0809 , B01J2219/0828 , B01J2219/083 , B01J2219/0841 , B01J2219/0886 , B01J2219/0892
Abstract: 本发明提供了控制在气体-固体反应器中的固体分布的方法和系统。通过控制在气体-固体反应器内的导电性表面之间流动的固体颗粒之间的电荷来控制固体分布。该电荷通过将相对的导电性表面接地或对于相对的导电性表面当中的一个施加电压来控制。
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公开(公告)号:CN1286552C
公开(公告)日:2006-11-29
申请号:CN03808177.6
申请日:2003-01-24
Applicant: 埃克森美孚化学专利公司
CPC classification number: B01J19/088 , B01J8/42 , B01J2208/00734 , B01J2219/00252 , B01J2219/0809 , B01J2219/0828 , B01J2219/083 , B01J2219/0841 , B01J2219/0886 , B01J2219/0892
Abstract: 本发明提供了控制在气体-固体反应器中的固体分布的方法和系统。通过控制在气体-固体反应器内的导电性表面之间流动的固体颗粒之间的电荷来控制固体分布。该电荷通过将相对的导电性表面接地或对于相对的导电性表面当中的一个施加电压来控制。
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