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公开(公告)号：CN104076413B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201410352507.3
申请日：2007-06-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/116
CPC classification number: G02B1/116
Abstract: 本发明涉及一种具有抗反射性的光学制品，其包括基材和从基材开始的下列层：包括基于SiO2的层的亚层，所述基于SiO2的层具有大于或等于75nm的厚度且不含Al2O3；以及多层抗反射涂层，包括由至少一个高折射率层和至少一个低折射率层构成的叠层，其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO2和Al2O3的混合物，抗反射涂层的高折射率层不是如下所述的其在可见光区域吸收的层：包含化学计量不足的钛氧化物且使得光学制品的可见光相对透光系数Tv相对于没有任何所述在可见光区域吸收的层的相同制品降低至少10％。
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公开(公告)号：CN101512390A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780032467.2
申请日：2007-06-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/116
Abstract: 本发明涉及一种具有抗反射性，任选抗静电性，高耐热性和耐磨损性的光学制品及其制造方法。本发明制品包括基材和从基材开始的下列层：包括基于SiO2的层的亚层，所述基于SiO2的层具有大于或等于75nm的厚度且不含Al2O3；以及多层抗反射涂层，包括由至少一个高折射率层和至少一个低折射率层构成的叠层，其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO2和Al2O3的混合物，抗反射涂层的高折射率层不是这样的层：其在可见光区域吸收，包含化学计量不足的钛氧化物且使得光学制品的可见光相对透光系数(Tv)相对于没有任何所述可见光吸收层的相同制品降低至少10％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104076413A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410352507.3
申请日：2007-06-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/116
Abstract: 本发明涉及一种具有抗反射性的光学制品，其包括基材和从基材开始的下列层：包括基于SiO2的层的亚层，所述基于SiO2的层具有大于或等于75nm的厚度且不含Al2O3；以及多层抗反射涂层，包括由至少一个高折射率层和至少一个低折射率层构成的叠层，其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO2和Al2O3的混合物，抗反射涂层的高折射率层不是如下所述的其在可见光区域吸收的层：包含化学计量不足的钛氧化物且使得光学制品的可见光相对透光系数Tv相对于没有任何所述在可见光区域吸收的层的相同制品降低至少10％。
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公开(公告)号：CN101617248B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200880005797.7
申请日：2008-02-22
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/12 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/10 , G02B1/115
Abstract: 本发明涉及一种制造具有抗反射性或反光性并包含具有至少一个主表面的基底的光学制品的方法，该方法包括在基底主表面上沉积底层的步骤，通过离子轰击处理底层的步骤和在所述底层上沉积包含至少一层高折射率层和和至少一层低折射率层的多层叠层的步骤。根据优选实施方案，底层的沉积在真空室中进行，其中在沉积步骤中向真空室中供应气体。
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公开(公告)号：CN101512389B
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200780032457.9
申请日：2007-06-27
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/11
Abstract: 本发明涉及具有抗反射性和高热阻的光学制品，其包括至少一个主面涂有包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层的多层抗反射涂层的基材，其中比率RT＝(抗反射涂层的低折射率层的物理厚度之和)/(抗反射涂层的高折射率层的物理厚度之和)大于2.1。如果所述抗反射叠层包括至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，则所述比率RT计算中不考虑相对厚的层以及底下层。
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公开(公告)号：CN101617248A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200880005797.7
申请日：2008-02-22
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/12 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/10 , G02B1/115
Abstract: 本发明涉及一种制造具有抗反射性或反光性并包含具有至少一个主表面的基底的光学制品的方法，该方法包括在基底主表面上沉积底层的步骤，通过离子轰击处理底层的步骤和在所述底层上沉积包含至少一层高折射率层和和至少一层低折射率层的多层叠层的步骤。根据优选实施方案，底层的沉积在真空室中进行，其中在沉积步骤中向真空室中供应气体。
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公开(公告)号：CN101512389A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780032457.9
申请日：2007-06-27
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/11
Abstract: 本发明涉及具有抗反射性和高热阻的光学制品，其包括至少一个主面涂有包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层的多层抗反射涂层的基材，其中比率RT＝(抗反射涂层的低折射率层的物理厚度之和)/(抗反射涂层的高折射率层的物理厚度之和)大于2.1。如果所述抗反射叠层包括至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，则所述比率RT计算中不考虑相对厚的层以及底下层。
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