公开(公告)号：CN108138331A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680060184.8

申请日：2016-10-06

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  山田信明 ,  合田洋 ,  寺下慎一

IPC: C23F1/14 ,  C23F1/36 ,  C23F17/00 ,  C25D11/04 ,  C25D11/12 ,  C25D11/16

Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。

公开(公告)号：CN108138331B

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201680060184.8

申请日：2016-10-06

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  山田信明 ,  合田洋 ,  寺下慎一

IPC: C23F1/14 ,  C23F1/36 ,  C23F17/00 ,  C25D11/04 ,  C25D11/12 ,  C25D11/16

Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。