半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1235319C

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN03158576.0

    申请日:2003-09-19

    Inventor: 大久保伸洋

    Abstract: 本发明涉及一种半导体激光器及其制造方法,可以降低在高输出工作时的驱动电流,并且确保较高的长期可靠性。该半导体激光器包括一半导体基板,一第一导电型的第一覆盖层,一活性层,一第二导电型的第二覆盖层以及一第二导电型的保护层,并且在靠近激光谐振器端面的区域中的活性层(窗口区)的荧光峰值波长小于在激光谐振器内部区域中的活性层(活性区)的荧光峰值波长。在靠近激光谐振器端面的区域中的活性层内,具有第二导电性的第一杂质原子和具有第二导电性的第二杂质原子混合存在,同时第一杂质原子的浓度高于第二杂质原子的浓度。

    半导体激光器及其生产方法

    公开(公告)号:CN1578027A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410055237.6

    申请日:2004-07-22

    Inventor: 大久保伸洋

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/164 H01S5/168 H01S5/2205

    Abstract: 在一种AlGaInP半导体激光器中,在半导体衬底上至少形成第一导电型第一包层、有源层和第二导电型第二包层。第二包层在与衬底反向相对的一侧上形成条带形的脊,在脊的两侧上设置第一导电型电流阻碍层。第一导电型电流阻碍层相对于半导体衬底的晶格失配率为-0.20%或者更大,但不超过0%。该晶格失配率在电流阻碍层内可以是均匀的。可选择地,该晶格失配率可以随着该电流阻碍层与第二导电型第二包层中除脊之外的部分的距离增加而连续或逐渐增加。

    半导体激光器及其生产方法

    公开(公告)号:CN1322643C

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200410055237.6

    申请日:2004-07-22

    Inventor: 大久保伸洋

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/164 H01S5/168 H01S5/2205

    Abstract: 在一种AlGaInP半导体激光器中,在半导体衬底上至少形成第一导电型第一包层、有源层和第二导电型第二包层。第二包层在与衬底反向相对的一侧上形成条带形的脊,在脊的两侧上设置第一导电型电流阻碍层。第一导电型电流阻碍层相对于半导体衬底的晶格失配率为-0.20%或者更大,但不超过0%。该晶格失配率在电流阻碍层内可以是均匀的。可选择地,该晶格失配率可以随着该电流阻碍层与第二导电型第二包层中除脊之外的部分的距离增加而连续或逐渐增加。

    半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1497810A

    公开(公告)日:2004-05-19

    申请号:CN03158576.0

    申请日:2003-09-19

    Inventor: 大久保伸洋

    Abstract: 本发明涉及一种半导体激光器及其制造方法,可以降低在高输出工作时的驱动电流,并且确保较高的长期可靠性。该半导体激光器包括一半导体基板,一第一导电型的第一覆盖层,一活性层,一第二导电型的第二覆盖层以及一第二导电型的保护层,并且在靠近激光谐振器端面的区域中的活性层(窗口区)的荧光峰值波长小于在激光谐振器内部区域中的活性层(活性区)的荧光峰值波长。在靠近激光谐振器端面的区域中的活性层内,具有第二导电性的第一杂质原子和具有第二导电性的第二杂质原子混合存在,同时第一杂质原子的浓度高于第二杂质原子的浓度。

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