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公开(公告)号：CN112629727A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011476851.5
申请日：2020-12-14
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01L5/00
Abstract: 本发明公开了一种一种环形抛光过程中的限位支撑及摩擦力在线监测一体化装置，在传统限位支撑装置的拨叉上开设哑铃状沟槽，在沟槽处的拨叉侧边粘贴应变花，在环形抛光过程中实时监测应变数值以求解工件和工具盘之间摩擦力，进一步反映工件的环形抛光状态的稳定性。由于本发明没有将整台环形抛光机置于滑台上从而产生大的附加质量，提高了摩擦力测量的精度，满足当工件尺寸较小或压力较小时测量摩擦力的需求。由于本发明没有增加额外的机构，仅在原有的拨叉上加工哑铃状沟槽，不会改变原来的环形抛光工艺状态，进一步提高了摩擦力测量的有效性。由于本发明对传统环形抛光机的改动较小，结构精简，降低了设备升级改造成本。
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公开(公告)号：CN111266937A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN202010202480.5
申请日：2020-03-20
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法，所述装置包括控制系统、基座、升降板、抛光模块和测量模块；抛光模块和测量模块均位于基座上；升降板位于抛光模块和测量模块之间；抛光模块包括摇臂机构、抛光垫表面修整机构、抛光垫面形测量装置和环形抛光工具盘机构；测量模块包括平面零件面形自动化测量装置和机械臂机构。本发明充分考虑了平面零件的具体面形，通过控制平面零件表面材料去除率分布函数，使平面零件表面材料去除率分布函数和平面零件面形成归一化后的镜像对称关系，实现平面零件的确定性抛光，保证了平面零件面形在抛光过程中的高效收敛。本发明采用低成本的作业方式完成高精度的抛光过程，降低了设备成本。
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公开(公告)号：CN112629727B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202011476851.5
申请日：2020-12-14
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01L5/00
Abstract: 本发明公开了一种一种环形抛光过程中的限位支撑及摩擦力在线监测一体化装置，在传统限位支撑装置的拨叉上开设哑铃状沟槽，在沟槽处的拨叉侧边粘贴应变花，在环形抛光过程中实时监测应变数值以求解工件和工具盘之间摩擦力，进一步反映工件的环形抛光状态的稳定性。由于本发明没有将整台环形抛光机置于滑台上从而产生大的附加质量，提高了摩擦力测量的精度，满足当工件尺寸较小或压力较小时测量摩擦力的需求。由于本发明没有增加额外的机构，仅在原有的拨叉上加工哑铃状沟槽，不会改变原来的环形抛光工艺状态，进一步提高了摩擦力测量的有效性。由于本发明对传统环形抛光机的改动较小，结构精简，降低了设备升级改造成本。
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公开(公告)号：CN111266937B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202010202480.5
申请日：2020-03-20
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法，所述装置包括控制系统、基座、升降板、抛光模块和测量模块；抛光模块和测量模块均位于基座上；升降板位于抛光模块和测量模块之间；抛光模块包括摇臂机构、抛光垫表面修整机构、抛光垫面形测量装置和环形抛光工具盘机构；测量模块包括平面零件面形自动化测量装置和机械臂机构。本发明充分考虑了平面零件的具体面形，通过控制平面零件表面材料去除率分布函数，使平面零件表面材料去除率分布函数和平面零件面形成归一化后的镜像对称关系，实现平面零件的确定性抛光，保证了平面零件面形在抛光过程中的高效收敛。本发明采用低成本的作业方式完成高精度的抛光过程，降低了设备成本。
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