公开(公告)号：CN118786196A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202380024726.6

申请日：2023-03-01

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 波北悟 ,  森安礼奈 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  G·托尔蒂西耶

IPC: C09K3/18 ,  C08L83/04 ,  C08L71/02

Abstract: 本发明提供一种含有成分(A)：交联性化合物、和成分(B)：非氟拨液性化合物的组合物，其满足下述式：Pb－Pc＞0[式中：Pb为由上述非氟拨液性化合物形成的层的表面自由能中的极性分量比的值，Pc为由上述组合物形成的层的表面自由能中的极性分量比的值。]。

公开(公告)号：CN116694202A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310176102.8

申请日：2023-02-28

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 森安礼奈 ,  波北悟 ,  野村孝史

IPC: C09D171/00 ,  C09D7/62 ,  C08J7/046 ,  C08L69/00

Abstract: 本发明提供一种能够通过较少工序数形成具有优异耐磨损性的表面处理层的表面处理剂、以及具有由该表面处理剂形成的表面处理层的物品及其制造方法。本发明的表面处理剂含有在一个分子内具有有机反应性基团及水解性硅烷基的偶联剂、和含氟代聚醚基的硅烷化合物α，上述含氟代聚醚基的硅烷化合物α由以下式(α1)或式(α2)表示。式中，各符号的含义与说明书中相同。

公开(公告)号：CN118804964A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202380024081.6

申请日：2023-02-28

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 森安礼奈 ,  波北悟 ,  野村孝史

IPC: C09K3/18 ,  C09K3/00

Abstract: 本发明提供一种具备具有优异的耐候性和耐磨损性的表面处理层的物品及其制造方法、以及表面处理剂。本发明的物品包括：有机基材；位于上述有机基材上、由含有偶联剂的底涂剂形成的底涂层，上述偶联剂在一个分子内具有有机反应性基团和水解性硅烷基；和直接位于上述底涂层上、由表面处理剂形成的表面处理层，上述表面处理剂含有含氟代聚醚基的硅烷化合物。上述含氟代聚醚基的硅烷化合物由后述式(α1)或式(α2)表示。[式中各符号的含义与说明书中相同。]#imgabs0#

公开(公告)号：CN116694203A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310175852.3

申请日：2023-02-28

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 波北悟 ,  森安礼奈 ,  野村孝史

IPC: C09D171/02 ,  C09D7/63

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成拨液性优异、并且滑液性也优异的层的组合物。本发明提供一种含有成分(A)：交联性化合物和成分(B)：含氟拨液性化合物的组合物，其中，满足式：Pb－Pc＞0[式中：Pb为由上述含氟拨液性化合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值，Pc为由上述组合物形成的层的表面自由能中极性分量比的值。]。

公开(公告)号：CN116457438A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202180075290.4

申请日：2021-11-24

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 森安礼奈 ,  波北悟 ,  森田正道

IPC: C09K3/00

Abstract: 本发明的表面处理剂含有：(A)下述式(A1)或式(A2)所示的化合物；和(B)下述式(B1)或式(B2)所示的化合物，上述表面处理剂含有上述式(A2)所示的化合物或上述式(B2)所示的化合物中的至少1种。