公开(公告)号：CN113136539A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110322311.X

申请日：2021-03-25

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 杨阳 ,  张世宏 ,  周祥

IPC: C23C8/02 ,  C23C8/36

Abstract: 本发明涉及等离子体渗氮技术领域，具体涉及一种稀土化合物辅助等离子体渗氮技术，先对试样抛光至镜面并清洗，然后配制稀土化合物前驱体溶液，利用悬涂法或刮涂法在合金表面制备稀土化合物薄膜，最后对合金进行等离子体辅助渗氮技术处理；这种稀土化合物辅助加速等离子体渗氮的方法，解决了等离子体渗氮时为了提高渗层厚度而升温导致氮化层晶粒长大、增加了能耗，降低了生产效率的问题。

公开(公告)号：CN113957380A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202111255505.9

申请日：2021-10-27

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 王启民 ,  杨阳 ,  张世宏 ,  郑军 ,  周祥 ,  门尚武

IPC: C23C8/38 ,  C23C8/02

Abstract: 本发明涉及等离子体渗氮技术领域，具体涉及一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法：对试样抛光至镜面并清洗、烘干后装载入炉内，打开真空泵，抽真空至5.0×10‑2Pa；电阻加热开启，炉温升温至渗氮所需温度400～550℃；通入氩气，加电压700‑800V，电离氩气形成辉光等离子体清洗试样表面，去除材料表面的氧化物等杂质，激活材料表面；接着利用柱弧源产生的弧光等离子体中的电子流电离氩气，进行二次激活，柱弧靶电流为100～200A；通入氮气，柱弧靶电流维持在100～200A，气压维持在1～3Pa，工件接负偏压300‑500V，形成的氮离子进行渗氮，渗氮速率远高于辉光等离子体渗氮，渗氮层表面粗糙度低，表面质量高，力学性能和摩擦磨损性能优于传统辉光等离子体渗氮术。