公开(公告)号：CN117136334A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202280028436.4

申请日：2022-04-08

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 户次洋佑 ,  小岛雅史 ,  后藤研由 ,  藤卷锦

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种含有由通式(S1)表示的化合物及酸分解性树脂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、图案形成方法、及电子器件的制造方法，以及通过由通式(S1)表示的化合物，在用于图案形成时可获得具有良好形状的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、图案形成方法、及电子器件的制造方法，以及可用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物。Q1～Q5分别独立地表示氢原子或取代基，其中，Q1～Q5中的至少一个表示含有由通式(QR1)表示的芳氧基的取代基；Lq1表示单键或二价的连接基团；M+表示阳离子， G1～G5分别独立地表示氢原子或取代基，其中，G1～G5中的至少一个表示含有酯基的取代基；*表示键合位置。

公开(公告)号：CN118749087A

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202380023504.2

申请日：2023-01-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 户次洋佑 ,  涩谷爱菜 ,  小岛雅史 ,  后藤研由 ,  丸茂和博

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物在极微细的图案形成中，能够形成CDU优异的图案，即使在制备后经时之后，亦能够形成CDU优异的图案。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由通式(Q1)表示的化合物(C)、及酸分解性树脂(A)。#imgabs0#Ar1表示芳香族基团。W1表示有机基团。X1表示包含选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑、‑S(＝O)‑及‑S(＝O)2‑所组成的组中的至少一个的连接基团。Y1表示吸电子基团。Z1表示卤素原子。M+表示阳离子。k1表示1以上的整数。k2表示1以上的整数。其中，‑X1‑W1‑所表示的基团不包含*1‑O‑C(＝O)‑*2。*1及*2表示键结位置。*1是与Ar1的键结位置。