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公开(公告)号：CN118354888A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202380014942.2
申请日：2023-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在与感光性树脂层等组合而用作干膜抗蚀剂时能够抑制光学故障的聚酯膜的制造方法及聚酯膜。并且，本发明的课题在于提供一种干膜抗蚀剂及剥离膜。本发明的聚酯膜的制造方法包括：工序1，在钛化合物的存在下连续地进行聚酯树脂前体的聚合，并在通过电感耦合等离子体质谱法对包含所制造的聚酯树脂的产物进行测量而获得的锑的含量相对于上述产物降低至1.0质量ppm以下之后，获得聚酯树脂；工序2，用包含粉末状烧结体的滤材及包含过滤精度为3μm以下的纤维状烧结体的滤材，对上述聚酯树脂的熔融物进行过滤；及工序3，使用经过滤的上述熔融物制造聚酯膜。
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