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公开(公告)号：CN110225949B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201880008438.0
申请日：2018-02-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/04 , C03C17/25 , C08G77/24 , C09D5/33 , C09D7/61 , C09D7/63 , G02B1/111 , G02B1/113 , H01L31/0216
Abstract: 本发明提供一种涂布组合物及其应用，所述涂布组合物包含：聚合物粒子，数均一次粒径为30nm～200nm；硅氧烷树脂，重均分子量为600～6000，且包含选自单元(1)、(2)及(3)中的至少1种单元，且单元(1)、(2)及(3)的总计质量相对于硅氧烷树脂的总质量为95质量％以上；以及溶剂。R1各自表示碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的氟化烷基，R2各自表示氢原子或碳原子数1～8的烷基，当包含单元(1)及(2)这两者时，由R1或R2表示的碳原子数1～8的烷基可以相同也可以不同。单元(1)：R1‑Si(OR2)2O1/2单元；单元(2)：R1‑Si(OR2)O2/2单元；单元(3)：R1‑Si‑O3/2单元。
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公开(公告)号：CN109643063A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I-1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
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公开(公告)号：CN107735730A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201680035917.2
申请日：2016-05-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , C08F12/24 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F12/24 , C08F12/22 , C08F212/14 , C08F220/10 , C09D125/18 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027 , C08F2220/282 , C08F212/32 , C08F2220/281
Abstract: 本发明提供一种显影液、使用该显影液的图案形成方法及包括该图案形成方法的电子设备的制造方法，所述显影液是为了以非常高的水准兼具高精度的微细图案的图案塌陷性能与桥接性能而用于由感光化射线性或感放射线性组合物所得的抗蚀剂膜，且含有具有支链烷基的酮系或醚系溶剂。
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公开(公告)号：CN113260604A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980086223.5
申请日：2019-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C43/10 , C07C43/11 , C07C43/13 , C07C43/20 , C07C47/04 , C07C47/06 , C07C47/12 , C07C47/14 , C07C47/21 , C07C69/16 , C07C205/44 , C07D335/02 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D303/48 , C07D307/68
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有作为由特定的通式(1)表示的化合物和由特定的通式(2)表示的化合物中的至少一个的化合物(P)，并且，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述化合物(P)的含量为1ppm以上且1000ppm以下，上述化合物(P)的分子量为500以下。
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公开(公告)号：CN107111253A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070596.5
申请日：2015-12-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明的课题为提供一种可抑制抗蚀剂图案中的缺陷的产生的抗蚀剂膜图案化用有机系处理液及图案形成方法。本发明的有机系处理液是用于对由感光化射线或感放射线性组合物所获得的抗蚀剂膜进行显影及清洗的至少一者、且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用有机系处理液，所述有机系处理液的氧化剂的含有量为10mmol/L以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113260604B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN201980086223.5
申请日：2019-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C43/10 , C07C43/11 , C07C43/13 , C07C43/20 , C07C47/04 , C07C47/06 , C07C47/12 , C07C47/14 , C07C47/21 , C07C69/16 , C07C205/44 , C07D335/02 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D303/48 , C07D307/68
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有作为由特定的通式(1)表示的化合物和由特定的通式(2)表示的化合物中的至少一个的化合物(P)，并且，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述化合物(P)的含量为1ppm以上且1000ppm以下，上述化合物(P)的分子量为500以下。
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公开(公告)号：CN110225949A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201880008438.0
申请日：2018-02-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B7/02 , B32B27/00 , C03C17/25 , C08G77/24 , C09D5/33 , C09D7/40 , G02B1/111 , G02B1/113 , H01L31/0216
Abstract: 本发明提供一种涂布组合物及其应用，所述涂布组合物包含：聚合物粒子，数均一次粒径为30nm～200nm；硅氧烷树脂，重均分子量为600～6000，且包含选自单元(1)、(2)及(3)中的至少1种单元，且单元(1)、(2)及(3)的总计质量相对于硅氧烷树脂的总质量为95质量％以上；以及溶剂。R1各自表示碳原子数1～8的烷基或碳原子数1～8的氟化烷基，R2各自表示氢原子或碳原子数1～8的烷基，当包含单元(1)及(2)这两者时，由R1或R2表示的碳原子数1～8的烷基可以相同也可以不同。单元(1)：R1-Si(OR2)2O1/2单元；单元(2)：R1-Si(OR2)O2/2单元；单元(3)：R1-Si-O3/2单元。
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公开(公告)号：CN103827750B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201280044672.1
申请日：2012-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F212/32 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/2059 , G03F7/325 , H01J37/3174
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。
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公开(公告)号：CN117492325A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202310954164.7
申请日：2023-07-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种曝光宽容度性能优异的感光化射线性或感放射线性树脂组成物。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含(A)通过酸的作用而碱可溶性增大的树脂、(C)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、及(S)含有沸点为130～150℃的溶剂SA和沸点为155～250℃的溶剂SB的溶剂，上述溶剂SA的含量高于溶剂SB的含量，且溶剂SB相对于总溶剂的含量为1～30质量％，固体成分浓度为10质量％以上。
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公开(公告)号：CN108139691A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680057969.X
申请日：2016-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0388 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案崩塌的发生和抗蚀剂C/H图案中的遗漏不良的发生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液为用于对由感光化射线性或感放射线性树脂组合物得到的抗蚀剂膜进行显影及清洗中的至少一种且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液含有相对介电常数为4.0以下的第1有机溶剂和相对介电常数为6.0以上的第2有机溶剂。
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