公开(公告)号：CN101037251B

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200710005340.3

申请日：2007-02-14

Applicant: 尔必达存储器株式会社

Inventor： 段畠政善

IPC: C02F1/68

CPC classification number: C02F1/20 ,  C02F1/02 ,  C02F1/685 ,  C02F2103/346 ,  C02F2301/063 ,  C02F2303/26 ,  H01L21/6704

Abstract: 提供一种系统，该系统在不增加批量生产半导体工厂中制造的纯水量的条件下能够提供几乎不包含溶解气体的纯水和包含溶解气体的纯水。在本发明中，使用纯水供应系统提供纯水，该纯水供应系统包括：用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯水制造装置；能够从纯水制造装置提供纯水的第一纯水供应装置；经由耦合部分耦合到纯水制造装置并在经由耦合部分从纯水制造装置传送的纯水中溶解气体的溶解装置；以及能够提供其中通过溶解装置溶解气体的纯水的第二纯水供应装置。

公开(公告)号：CN101037251A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710005340.3

申请日：2007-02-14

Applicant: 尔必达存储器株式会社

Inventor： 段畠政善

IPC: C02F1/68

CPC classification number: C02F1/20 ,  C02F1/02 ,  C02F1/685 ,  C02F2103/346 ,  C02F2301/063 ,  C02F2303/26 ,  H01L21/6704

Abstract: 提供一种系统，该系统在不增加批量生产半导体工厂中制造的纯水量的条件下能够提供几乎不包含溶解气体的纯水和包含溶解气体的纯水。在本发明中，使用纯水供应系统提供纯水，该纯水供应系统包括：用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯水制造装置；能够从纯水制造装置提供纯水的第一纯水供应装置；经由耦合部分耦合到纯水制造装置并在经由耦合部分从纯水制造装置传送的纯水中溶解气体的溶解装置；以及能够提供其中通过溶解装置溶解气体的纯水的第二纯水供应装置。