公开(公告)号：CN1212191C

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN00817810.0

申请日：2000-12-21

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： M·哈克 ,  G·多尔桑 ,  H·博斯

IPC: B01J25/00 ,  B01J37/02 ,  B01J37/34 ,  B01J35/06 ,  C07B35/00 ,  C07C29/17

CPC classification number: B01J25/00 ,  B01J35/06 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/34

Abstract: 本发明涉及施加在载体上的阮内合金催化剂，所说的催化剂具有厚度为0.01-100μm的极薄的阮内合金层。这些催化剂通过减压条件下适当金属的气相沉积制备，普遍适用于所有已知的氢化和脱氢反应，并且极具耐磨性。

公开(公告)号：CN1413128A

公开(公告)日：2003-04-23

申请号：CN00817810.0

申请日：2000-12-21

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： M·哈克 ,  G·多尔桑 ,  H·博斯

IPC: B01J25/00 ,  B01J37/02 ,  B01J37/34 ,  B01J35/06 ,  C07B35/00 ,  C07C29/17

CPC classification number: B01J25/00 ,  B01J35/06 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/34

Abstract: 本发明涉及施加在载体上的阮内合金催化剂，所说的催化剂具有厚度为0.01－100μm的极薄的阮内合金层。这些催化剂通过减压条件下适当金属的气相沉积制备，普遍适用于所有已知的氢化和脱氢反应，并且极具耐磨性。