公开(公告)号：CN100402120C

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN02808984.7

申请日：2002-04-26

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： R·本福尔 ,  M·尼勒斯 ,  W·魏因勒 ,  P·策纳

IPC: B01D3/00 ,  B01D3/20 ,  B01J8/22

CPC classification number: B01J8/226 ,  B01D3/009 ,  B01D3/20 ,  B01J8/1818 ,  B01J8/34 ,  B01J47/00 ,  B01J2219/32296 ,  B01J2219/32466 ,  Y02P20/142

Abstract: 本发明涉及一种用于气/液或气/液/固反应的反应器(1)，该反应器包括：垂直的纵向轴，位于该反应器上部区的供液体或液体/固体原料流进入的入口(2)和位于该反应器(1)下部区的供气态料流进入的入口(3)。该反应器还包括：至少两个沿纵向一个位于另一个之上的室(4)，其中室(4)由液密底板(5)相互隔开。每个室经由液体溢流(6)与紧邻其下方的室(4)相连，液体产物料流通过最底室(4)的液体溢流(6)排出。每个室(4)中液面上的气体空间(7)经由一个或多个气体进料管(8)与紧邻其上方的室(4)相连，每一导管(8)通向带有供液面下气体排出的开孔的气体分配器(9)。该反应器还包括至少一个垂直地位于每个气体分配器(9)周围的挡板(12)，其上端终止于液面以下，下端终止于室(4)的液密底板(5)之上。另外挡板将每个室(4)划分成一个或多个气体流过的空间(13)和一个或多个气体不流过的空间(14)。

公开(公告)号：CN1505540A

公开(公告)日：2004-06-16

申请号：CN02808984.7

申请日：2002-04-26

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： R·本福尔 ,  M·尼勒斯 ,  W·魏因勒 ,  P·策纳

IPC: B01D3/00 ,  B01D3/20 ,  B01J8/22

CPC classification number: B01J8/226 ,  B01D3/009 ,  B01D3/20 ,  B01J8/1818 ,  B01J8/34 ,  B01J47/00 ,  B01J2219/32296 ,  B01J2219/32466 ,  Y02P20/142

Abstract: 本发明涉及一种用于气/液或气/液/固反应的反应器(1)，该反应器包括：垂直的纵向轴，位于该反应器上部区的供液体或液体/固体原料流进入的入口(2)和位于该反应器(1)下部区的供气态料流进入的入口(3)。该反应器还包括：至少两个沿纵向一个位于另一个之上的室(4)，其中室(4)由液密底板(5)相互隔开。每个室经由液体溢流(6)与紧邻其下方的室(4)相连，液体产物料流通过最底室(4)的液体溢流(6)排出。每个室(4)中液面上的气体空间(7)经由一个或多个气体进料管(8)与紧邻其上方的室(4)相连，每一导管(8)通向带有供液面下气体排出的开孔的气体分配器(9)。该反应器还包括至少一个垂直地位于每个气体分配器(9)周围的挡板(12)，其上端终止于液面以下，下端终止于室(4)的液密底板(5)之上。另外挡板将每个室(4)划分成一个或多个气体流过的空间(13)和一个或多个气体不流过的空间(14)。