基底处理设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109715347A

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201780055988.3

    申请日:2017-07-07

    Inventor: V.W.曾 C.W.苏

    Abstract: 一种基底处理设备,包括:框架(106);具有末端执行器(110E)并且构造成沿第一轴线延伸和缩回的第一SCARA式臂(110);具有末端执行器(120E)并且构造成沿第二轴线延伸和缩回的第二SCARA式臂(120);驱动区段,其包括可旋转地安装成在由第一SCARA式臂和第二SCARA式臂共用的驱动区段的旋转轴线处旋转的分开驱动带轮(606,906),分开驱动带轮通过单独的带节段(701,702,711,712)的相应节段化传动环联接到至少两个惰轮(600,601),使得分开驱动带轮是在至少两个惰轮之间分开驱动区段的一个自由度的公共带轮,以便共同地驱动至少两个惰轮,其中每个相应传动环的至少一个带共用公共带界面水平面。

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