公开(公告)号：CN104470701B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201380037980.6

申请日：2013-07-15

Applicant: 希捷科技有限公司

Inventor： 于兆宁 ,  N·仓高 ,  G·高兹纳

IPC: B29C59/02 ,  B29C33/42

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C09K13/00 ,  G03F7/40 ,  G11B5/746 ,  G11B5/855

Abstract: 这些实施例公开了用于电子固化反色调处理的方法，包括将抗蚀层沉积到图案化压印的抗蚀剂层上，该图案化压印的抗蚀剂层被制造到硬掩膜层上，该硬掩膜层被沉积到衬底上，在压印图案特征进入硬掩膜并进入衬底的蚀刻过程期间利用电子束剂量来固化抗蚀层以及利用分析过程来量化减少的图案特征布置漂移误差并量化所蚀刻的压印图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性。

公开(公告)号：CN104470701A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201380037980.6

申请日：2013-07-15

Applicant: 希捷科技有限公司

Inventor： 于兆宁 ,  N·仓高 ,  G·高兹纳

IPC: B29C59/02 ,  B29C33/42

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C09K13/00 ,  G03F7/40 ,  G11B5/746 ,  G11B5/855

Abstract: 这些实施例公开了用于电子固化反色调处理的方法，包括将抗蚀层沉积到图案化压印的抗蚀剂层上，该图案化压印的抗蚀剂层被制造到硬掩膜层上，该硬掩膜层被沉积到衬底上，在压印图案特征进入硬掩膜并进入衬底的蚀刻过程期间利用电子束剂量来固化抗蚀层以及利用分析过程来量化减少的图案特征布置漂移误差并量化所蚀刻的压印图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性。