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公开(公告)号：CN112676283A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011108568.7
申请日：2020-10-16
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。该清洗方法是具有染色槽（20）的涂抹标本制作装置（100）的染色槽（20）的清洗方法，染色槽（20）能够收纳涂抹有样本的载玻片（11），并储存对载玻片（11）上涂抹的样本进行染色的染色液（91）来进行染色处理，该清洗方法具备以下工序：接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息对染色槽（20）执行清洗作业的工序。
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