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公开(公告)号：CN115639046A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211408538.7
申请日：2017-02-03
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明的标本染色装置，包括：槽部件，能够配置载玻片，所述槽部件被配置为储存用于染色每个所述载玻片上的标本的染色液；盖部件，包括从上方区域覆盖所述槽部件的顶板，以及包括用于将所述载玻片移送至所述槽部件的插口；移送部件，用于通过所述插口将所述载玻片移送到所述槽部件；其中，所述盖部件包括内壁，所述内壁从所述顶板的所述插口一侧延伸直至所述内壁的下端浸入所述染色液中。
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公开(公告)号：CN108687087B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201810262995.7
申请日：2018-03-28
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂抹构件的清洗方法，该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中，向载玻片10上滴下清洗剂11，让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触，清洗涂抹构件42。
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公开(公告)号：CN108687087A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810262995.7
申请日：2018-03-28
Applicant: 希森美康株式会社
CPC classification number: B08B3/08 , B05C11/023 , B08B3/041 , B08B7/028 , C11D3/04 , C11D3/046 , G01N1/2813 , G01N1/312 , G01N35/00029 , G01N35/026 , G01N2035/00039 , G01N2035/00089 , G01N2035/00138 , B08B11/04 , B08B3/12 , G01N1/31
Abstract: 本发明提供一种涂抹构件的清洗方法，该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中，向载玻片10上滴下清洗剂11，让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触，清洗涂抹构件42。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112665932A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202011216018.7
申请日：2016-07-27
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明的样本涂抹装置具备：载玻片供给部；相对于载玻片供给部来说配置在第1方向的第1处理部；相对于第1处理部来说配置在和第1方向正交的第2方向的第2处理部；相对于第2处理部来说配置在和第1方向相反的第3方向的第1干燥处理部。第1处理部及第2处理部的其中一者执行对载玻片涂抹样本的涂抹处理。
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公开(公告)号：CN108027304A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680050083.2
申请日：2016-07-27
Applicant: 希森美康株式会社
Abstract: 本发明的样本涂抹装置具备：载玻片供给部；相对于载玻片供给部来说配置在第1方向的第1处理部；相对于第1处理部来说配置在和第1方向正交的第2方向的第2处理部；相对于第2处理部来说配置在和第1方向相反的第3方向的第1干燥处理部。第1处理部及第2处理部的其中一者执行对载玻片涂抹样本的涂抹处理。
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