-
公开(公告)号:CN119431010A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202310944949.6
申请日:2023-07-28
Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司
IPC: C04B41/89 , C04B41/86 , C03C8/00 , B28B3/00 , B28B11/00 , B28B11/04 , B28B11/08 , B28B11/24 , B41M5/00
Abstract: 本发明提供一种具深刻釉面立体效果大颗粒水磨石仿古砖的制备方法,涉及仿古砖制备方法技术领域,本发明方法包括坯体制备、施加面釉层、喷墨打印、打印数码胶水、布高钙硼干粒、喷仿古保护釉、烧成等步骤。本发明提供一种具深刻釉面立体效果大颗粒水磨石仿古砖的制备方法,通过在水磨石设计图案中的大颗粒、片粒状位置精准布高钙硼干粒,利用高钙硼干粒高温条件下表面张力非常小,物理性的特点,将仿古保护釉排开形成深刻凹陷纹理,可以获得凹凸立体效果好,且可以实现大面积凹凸立体效果的仿水磨石仿古砖。
-
公开(公告)号:CN119077912A
公开(公告)日:2024-12-06
申请号:CN202411128445.8
申请日:2024-08-16
Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有掐丝珐琅效果的建筑陶瓷砖及其制备方法,涉及建筑陶瓷砖技术领域。本发明陶瓷砖从下而上依次包括坯体层、面釉层、图案层、胶水层、干粒层、透明发色釉层;图案层是用数码喷墨机在面釉层上打印掐丝珐琅图案文件;胶水层是在喷墨打印图案后的坯体层表面用胶水干粒机打印数码胶水,打印胶水的文件是利用数码喷墨机打印掐丝珐琅图案文件制作出来的具有金属闪光和下陷效果的文件,通过精准对位,确保数码胶水打印的位置与数码喷墨机打印掐丝珐琅图案完全吻合重叠;干粒层涂布的是金色干粒和/或有色干粒。本发明解决了现有瓷砖图案及金属效果单一的问题,可以根据图案的要求定位实现区域性金属和闪光效果,实现具有掐丝珐琅效果。
-
公开(公告)号:CN119349887A
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202411742237.7
申请日:2024-11-29
Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种耐酸碱高透黑砖抛釉的制备方法及应用,涉及黑砖抛釉制备技术领域。所述黑砖抛釉包括以下重量份数的原料:钾长石30‑40份、氧化锌3‑5份、煅烧滑石5‑9份、硅灰石4‑7份、方解石2‑6份、水洗土6‑9份、硫酸钡6‑10份、硫酸锶7‑10份、石英7‑9份和透辉石6‑8份。本发明通过调整抛釉配方,搭配现有生产面釉,统筹配方成分体系兼顾釉面各方面性能,在保证黑砖及常规浅色生产版面釉面透感强、耐酸碱不低于GLB级的前提下,兼顾宽体窑生产砖形的稳定及烧成温度曲线的匹配。
-
公开(公告)号:CN117735837A
公开(公告)日:2024-03-22
申请号:CN202311733841.9
申请日:2023-12-15
Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司
IPC: C03C8/00 , C04B35/00 , C04B35/622 , C04B33/04 , C04B33/24 , C04B41/89 , C04B41/86 , B28B3/00 , B28B11/04 , B28B11/00 , B28B11/24
Abstract: 本发明一种使釉面呈大面积深凹立体效果的干粒制备方法及应用,以B2O3、CaO、Na2O、SiO2为主要成分的低熔点干粒与透明釉相互作用,在窑炉高温烧成过程中发生反应,产生相对大的烧成收缩,使釉面实现大面积深凹陷效果,使用所述使釉面呈大面积深凹立体效果的干粒可以制得砖坯釉面具有大面积深凹陷效果的瓷质釉面砖,凹陷深度在0.4~1.3mm,花纹面积大于1cm2的位置也可以实现深凹陷效果,可以实现深凹陷立体效果跟图案纹理自由结合,线条状、点状以及大面积片状花纹图案都可以实现深凹陷立体效果。
-
公开(公告)号:CN308009122S
公开(公告)日:2023-04-28
申请号:CN202230724373.9
申请日:2022-11-01
Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:瓷砖(卡缇雅)。
2.本外观设计产品的用途:用于地面、墙面的铺设。
3.本外观设计产品的设计要点:在于图案与色彩的结合。
4.最能表明设计要点的图片或照片:组合状态图。
5.请求保护的外观设计包含色彩。
6.本外观设计产品为薄型产品,省略套件1‑4左视图、右视图、俯视图、仰视图;本外观设计产品的背面为使用时不容易看到或看不到的部位,省略套件1‑4的后视图。
-
-
-
-