公开(公告)号：CN114249533B

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202111419466.1

申请日：2021-11-26

Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司

Inventor： 赵勇 ,  尹诗斌 ,  周安超 ,  袁富祥 ,  刘荣勇 ,  闫江丽 ,  赵一波 ,  邱玉鹏 ,  廖成凤

IPC: C03C8/00 ,  C04B41/89 ,  C04B41/86

Abstract: 本发明一种氧化石墨烯釉料改性抛光瓷砖的制备方法，优化了釉料A及釉料B的组成及配比，同时优化了干燥工艺及烧制工艺，此时再对初成品抛光，能够完全抛除釉料B形成的釉层，且不会破坏已经烧结好的釉料A结晶层和釉料A结晶层表面的石墨烯颗粒，石墨烯颗粒不会脱落，保护氧化石墨烯釉面性能、减少抛光对釉面的影响；制成的釉料B添加了钾离子盐，能够使釉料B大幅度降低粘度、提升膨胀系数、降低整体烧成温度，使釉料B能够更早的先与釉料A形成紧密结构，从而在抛去釉料B后进一步保护釉料A的结晶层和表面的石墨烯颗粒。同时由于钾离子盐在高温烧结后生成纳米氧化钾，可以有效堵住A釉层的微孔，提升釉料A结晶层的抗压强度。

公开(公告)号：CN117245453A

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202311310248.3

申请日：2023-10-10

Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司

Inventor： 赵勇 ,  何宇奇 ,  李运富 ,  肖宏宇 ,  龚伟泉 ,  胡勇 ,  廖成凤 ,  黄钦杰 ,  何志豪

IPC: B24B1/00 ,  B24D3/28 ,  B24D3/34 ,  B24D18/00

Abstract: 本发明一种解决柔光陶瓷板材雾状缺陷的工艺，包括以下步骤：（1）高硬度、高耐磨抛光磨块的制备；（2）抛光处理；超洁亮处理。制备了一种高硬度、高耐磨抛光模具，且在原有的抛光模具长度基础上加长百分之五左右，并对抛光模块进行重新排列，更好适配柔光砖的抛光工艺，配合特制的纳米液使用，解决了现有柔光砖表面光泽度不均，造成视觉上的雾状缺陷问题；最终达到单片砖光泽度相差小于5度，砖面整体视觉效果良好的技术效果。本发明制备了一种高硬度、高耐磨抛光模具，该模具的硬度、耐磨度都优于现有的抛光模具，也大大增加了模具的使用寿命，有助于降低生产成本，大大提高了产品质量，也能够提升抛光效率。

公开(公告)号：CN114249533A

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN202111419466.1

申请日：2021-11-26

Applicant: 广西蒙娜丽莎新材料有限公司

Inventor： 赵勇 ,  尹诗斌 ,  周安超 ,  袁富祥 ,  刘荣勇 ,  闫江丽 ,  赵一波 ,  邱玉鹏 ,  廖成凤

IPC: C03C8/00 ,  C04B41/89 ,  C04B41/86

Abstract: 本发明一种氧化石墨烯釉料改性抛光瓷砖的制备方法，优化了釉料A及釉料B的组成及配比，同时优化了干燥工艺及烧制工艺，此时再对初成品抛光，能够完全抛除釉料B形成的釉层，且不会破坏已经烧结好的釉料A结晶层和釉料A结晶层表面的石墨烯颗粒，石墨烯颗粒不会脱落，保护氧化石墨烯釉面性能、减少抛光对釉面的影响；制成的釉料B添加了钾离子盐，能够使釉料B大幅度降低粘度、提升膨胀系数、降低整体烧成温度，使釉料B能够更早的先与釉料A形成紧密结构，从而在抛去釉料B后进一步保护釉料A的结晶层和表面的石墨烯颗粒。同时由于钾离子盐在高温烧结后生成纳米氧化钾，可以有效堵住A釉层的微孔，提升釉料A结晶层的抗压强度。