公开(公告)号：CN107768279A

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：CN201710728796.6

申请日：2017-08-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王建齐 ,  尤吉塔·巴瑞克 ,  朱丽亚·巴文 ,  凯文·A·派克

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32504 ,  C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32495 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/02

Abstract: 本公开内容的实现方式提供用于处理腔室中的腔室部件。腔室部件包括：主体，所述主体在等离子体处理腔室中使用；氧化物阻挡层，所述氧化物阻挡层形成在主体的暴露表面的至少一部分上，氧化物阻挡层具有约2gm/cm3或更大的密度；以及氟氧化铝层，所述氟氧化铝层形成在氧化物阻挡层上，氟氧化铝层具有约2nm或更大的厚度。

公开(公告)号：CN207587699U

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201721058541.5

申请日：2017-08-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王建齐 ,  尤吉塔·巴瑞克 ,  朱丽亚·巴文 ,  凯文·A·派克

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32504 ,  C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  H01J37/3178 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32495 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67069

Abstract: 本公开内容的实现方式提供用于处理腔室中的腔室部件。腔室部件包括：主体，所述主体在等离子体处理腔室中使用；氧化物阻挡层，所述氧化物阻挡层形成在主体的暴露表面的至少一部分上，氧化物阻挡层具有2gm/cm3或大于2gm/cm3的密度；以及氟氧化铝层，所述氟氧化铝层形成在氧化物阻挡层上，氟氧化铝层具有2nm或大于2nm的厚度。