公开(公告)号：CN114630922A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202080076762.3

申请日：2020-02-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈春诚 ,  张鸿文 ,  林信宏 ,  杨启昌 ,  克里斯托夫·蒙多夫 ,  托马斯·格比利 ,  于尔根·格里尔迈尔

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/54

Abstract: 提供一种用于在基板上沉积材料的真空处理设备(110)。真空处理设备(110)包括：真空腔室，真空腔室包括处理区域(111)；在真空腔室的处理区域(111)内的沉积设备(112)；在真空腔室内部的冷却表面(113)；和在冷却表面(113)与处理区域(111)之间的一个或多个可移动的遮挡件(220)。

公开(公告)号：CN116830239A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202180092295.8

申请日：2021-01-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 林信宏 ,  杨启昌 ,  唐炜婷

IPC: H01J37/34

Abstract: 描述了一种用于沉积系统的阴极驱动单元(100)。所述阴极驱动单元(100)包括马达(110)，所述马达具有驱动轴(111)。另外，所述阴极驱动单元(100)包括齿轮箱(120)，所述齿轮箱连接到所述驱动轴(111)。所述齿轮箱(120)具有用于驱动第一可旋转阴极(131)的第一输出轴(121)和用于驱动第二可旋转阴极(132)的第二输出轴(122)。另外，描述了一种沉积系统、一种操作沉积系统的方法和一种制造涂覆基板的方法。

公开(公告)号：CN114630922B

公开(公告)日：2025-03-11

申请号：CN202080076762.3

申请日：2020-02-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈春诚 ,  张鸿文 ,  林信宏 ,  杨启昌 ,  克里斯托夫·蒙多夫 ,  托马斯·格比利 ,  于尔根·格里尔迈尔

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/54

Abstract: 提供一种用于在基板上沉积材料的真空处理设备(110)。真空处理设备(110)包括：真空腔室，真空腔室包括处理区域(111)；在真空腔室的处理区域(111)内的沉积设备(112)；在真空腔室内部的冷却表面(113)；和在冷却表面(113)与处理区域(111)之间的一个或多个可移动的遮挡件(220)。