-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102197426B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN200980142620.6
申请日：2009-10-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明提供一种用于在基板上图案化磁性薄膜的方法，所述方法包括：在所述磁性薄膜周围提供图案，其中所述图案的选择性区域允许一或多种元素的能量化离子的穿透。能量化离子经产生而具有足够能量以穿透选择性区域及与这些选择性区域相邻的所述磁性薄膜的部分。置放所述基板以接收这些能量化离子。可使所述磁性薄膜的所述部分经受热激发。使所述磁性薄膜的这些部分呈现出与选择性其它部分不同的磁性性质。本发明亦揭示用于图案化磁性媒体的方法，所述媒体的两侧上具有磁性薄膜。
-
公开(公告)号：CN103996404B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201410246897.6
申请日：2009-10-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明提供一种用于在基板上图案化磁性薄膜的方法，所述方法包括：在所述磁性薄膜周围提供图案，其中所述图案的选择性区域允许一或多种元素的能量化离子的穿透。能量化离子经产生而具有足够能量以穿透选择性区域及与这些选择性区域相邻的所述磁性薄膜的部分。置放所述基板以接收这些能量化离子。可使所述磁性薄膜的所述部分经受热激发。使所述磁性薄膜的这些部分呈现出与选择性其它部分不同的磁性性质。本发明亦揭示用于图案化磁性媒体的方法，所述媒体的两侧上具有磁性薄膜。
-
公开(公告)号：CN102308371A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200980156483.1
申请日：2009-12-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： J·I·戴尔阿瓜博尼奇尔 , T·普恩 , R·斯查特尔卡普 , M·孚德
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L21/2236 , H01L21/324 , H01L21/7682 , H01L21/76829 , H01L21/823814
Abstract: 在一离子注入方法中，衬底放置于制程区，而离子注入衬底的区域中以形成离子注入区。多孔覆盖层沉积于离子注入区上。在退火制程期间，将衬底退火以挥发至少百分之八十上覆于离子注入区的多孔覆盖层。中间产物包括衬底、衬底上的多个离子注入区、以及覆盖离子注入区的多孔覆盖层。
-
公开(公告)号：CN103996404A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201410246897.6
申请日：2009-10-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明提供一种用于在基板上图案化磁性薄膜的方法，所述方法包括：在所述磁性薄膜周围提供图案，其中所述图案的选择性区域允许一或多种元素的能量化离子的穿透。能量化离子经产生而具有足够能量以穿透选择性区域及与这些选择性区域相邻的所述磁性薄膜的部分。置放所述基板以接收这些能量化离子。可使所述磁性薄膜的所述部分经受热激发。使所述磁性薄膜的这些部分呈现出与选择性其它部分不同的磁性性质。本发明亦揭示用于图案化磁性媒体的方法，所述媒体的两侧上具有磁性薄膜。
-
公开(公告)号：CN102396060A
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN201080017094.3
申请日：2010-04-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/68 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: H01L21/6831
Abstract: 一种用于处理腔室的基板支撑件，包括静电吸盘以及位于该静电吸盘下方的气体分配器基板，其中静电吸盘具有接收表面以接收该基板。该气体分配器基板包括具有复数个出气口的周围侧壁，这些出气口彼此间隔开，以便从围绕该基板的周边且以径向朝外的方向将处理气体导入该处理腔室。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.022 seconds)
