慢波基片集成波导滤波器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116387778A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310580000.2

    申请日:2023-05-23

    Abstract: 本发明实施例提供一种慢波基片集成波导滤波器,用以解决现有多层结构的慢波基片集成波导滤波器存在结构尺寸较大,制作工艺复杂的缺陷。该滤波器包括单层介质基体、第一金属层、第二金属层,在介质基体外周采用等间隔设置外围金属化通孔阵列,中间设置耦合金属化通孔队列和内部金属化盲孔阵列,金属化通孔与第一金属层和第二金属层均电连接,金属化盲孔与第二金属层电连接;外围金属化通孔阵列与耦合金属化通孔队列、内部金属化盲孔阵列形成由谐振腔和耦合窗组成的慢波滤波结构,实现慢波效应,进而实现慢波基片集成波导滤波器的单层化和小型化。

    平板玻璃及其制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119977319A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202510338674.0

    申请日:2025-03-21

    Abstract: 本发明实施例提供一种平板玻璃及其制备方法,涉及电子封装材料领域。该平板玻璃的主要成分为SiO2、Al2O3、B2O3、R2O,其中,R2O选自Li2O、Na2O和K2O中的一种、两种或三种,且按照氧化物摩尔百分比计,所述平板玻璃包括以下组分:SiO2:60%~75%;Al2O3:0.5%~3.0%;B2O3:18%~32%;R2O:4.0%~8.0%;本发明实施例通过对平板玻璃的组分进行设计,获得的平板玻璃兼具低介电常数、低介电损耗、低热膨胀系数和高热稳定性,且制备方法与玻璃材料的成熟制造工艺兼容,适合大规模量产。

    一种金属化垂直玻璃通孔的制备方法

    公开(公告)号:CN119542144A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411644412.9

    申请日:2024-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种金属化垂直玻璃通孔的制备方法,步骤包括:采用激光照射方法对玻璃基板的目标区域进行改性以形成变性区;采用溅射方式于玻璃基板上形成第一金属层;采用紫外照射方法将对应于变性区上的第一金属层进行烧蚀以露出变性区;采用腐蚀液蚀刻变性区以形成第一盲孔;对玻璃基板进行清洗、干燥;采用溅射方式于玻璃基板上形成第二金属层;采用紫外照射方法将第一盲孔底部的第二金属层进行烧蚀;采用腐蚀液蚀刻第一盲孔以形成第二盲孔;对玻璃基板进行清洗干燥;重复步骤(6)~(9),得到金属化垂直玻璃通孔。该制备方法可制得深径比高、垂直度好的玻璃通孔,同时确保金属层能够稳定且均匀地附着在玻璃通孔的内壁上。

    TGV深孔填充方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113066758A

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN202110307374.8

    申请日:2021-03-23

    Abstract: 本发明提供了一种TGV深孔填充方法,包括以下步骤:A、对玻璃基板进行清洗;B、对玻璃基板进行激光打孔,得到多个玻璃通孔;C、采用腐蚀液对玻璃基板以及玻璃通孔进行腐蚀;D、对玻璃基板以及玻璃通孔进行种子层溅射;E、将玻璃基板浸泡在稀硫酸溶液中以进行活化;F、电镀。通过对玻璃基板以及玻璃通孔进行腐蚀,使得玻璃基板以及玻璃通孔表面变得粗糙,种子层与玻璃基板以及玻璃通孔之间的摩擦系数增大,可增强种子层的附着强度,在后续活化以及电镀过程中,可在一定的程度上防止种子层脱落,从而保证电镀的效果。

    激光结合HF湿刻蚀加工TGV通孔的工艺

    公开(公告)号:CN112864026A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202110307378.6

    申请日:2021-03-23

    Abstract: 本发明提供了一种激光结合HF湿刻蚀加工TGV通孔的工艺,包括A、利用激光在玻璃晶圆上预设小孔;B、将玻璃晶圆放入装有HF溶液的容器,将容器放入超声设备中,开启超声设备,利用HF溶液将玻璃晶圆上的小孔腐蚀至需要的直径;C、取出玻璃晶圆,用去离子水清洗干净;D、检测玻璃通孔的孔径和通透性。通过激光诱导作用,可采用HF溶液刻蚀出孔径小于或等于50μm的圆孔,效率高,且通孔内壁光滑,锥度小,通孔密度可大于2500个/cm2,可有效减小玻璃晶圆的尺寸。

    碱金属原子气室制作方法及碱金属原子气室

    公开(公告)号:CN118929566A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410995682.8

    申请日:2024-07-24

    Abstract: 本发明实施例提供一种碱金属原子气室制作方法及碱金属原子气室,用以解决现有碱金属原子气室制作方法很难实现气室本体的内腔形状和尺寸的精确控制的技术问题。该碱金属原子气室制作方法,采用微纳加工技术制作得到的气室本体,其内腔形状规则、尺寸精度可达微米及以下。具有这种高精度的规则内腔结构的所述碱金属原子气室,具有优良的密封性能和长期稳定性,能够满足原子能级光路对光线漫射、散射和折射的严格要求,有利于精确操控和观测碱金属原子。此外,本发明实施例中的碱金属原子气室制作方法可在常规环境下实现碱金属原子气和惰性气体的注入,大大简化了生产流程,提高了生产效率。

    一种含有高深径比孔洞的玻璃的制备方法

    公开(公告)号:CN119528446A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411644417.1

    申请日:2024-11-18

    Abstract: 本发明公开了一种含有高深径比孔洞的玻璃的制备方法,步骤包括:(1)将玻璃基板进行预处理;(2)采用超快激光对玻璃基板的目标区域进行照射而形成变性区;(3)于玻璃基板的上下表面涂覆光刻胶;(4)于步骤(3)后进行曝光处理;(5)于步骤(4)后进行显影处理以漏出变性区;(6)对玻璃基板上的变性区进行干法蚀刻,得到含有高深径比孔洞的玻璃,其中干法蚀刻的反应气体为氟基气体和氧气。本发明的制备方法巧妙结合了超快激光的高精度加工、光刻胶的精细掩模保护作用以及干法蚀刻的精细控制,从而可高效、高精度地制备含有高深径比孔洞的玻璃。

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