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公开(公告)号：CN118106283A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202410453772.4
申请日：2024-04-16
Applicant: 扬州宏远电子股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种高比容腐蚀箔用清洗装置，涉及腐蚀箔清洗技术领域，包括清洗箱，清洗箱的侧面固定连接有密封门，清洗箱的其中一侧的两端均固定连接有固定板。本发明，第一转筒、第二转筒、搅拌叶片、分流管和喷淋管之间的配合可使该装置在对高比容腐蚀箔进行清洗时使清洗液与高比容腐蚀箔进行充分接触使高比容腐蚀箔浸泡在清洗液的内部而后带动清洗液进行流动对高比容腐蚀箔进行冲刷并且对清洗箱内部的清洗液进行抽取对高比容腐蚀箔进行喷淋清洗，有效解决了高比容腐蚀箔进行清洗时只是浸泡在清洗液内部清洗效率较低需要进行多次清洗并且需要耗费大量清洗液的问题。
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公开(公告)号：CN222625567U
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202420798433.5
申请日：2024-04-16
Applicant: 扬州宏远电子股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种高比容腐蚀箔用清洗装置，涉及腐蚀箔清洗技术领域，包括清洗箱，清洗箱的侧面固定连接有密封门，清洗箱的其中一侧的两端均固定连接有固定板。本实用新型，第一转筒、第二转筒、搅拌叶片、分流管和喷淋管之间的配合可使该装置在对高比容腐蚀箔进行清洗时使清洗液与高比容腐蚀箔进行充分接触使高比容腐蚀箔浸泡在清洗液的内部而后带动清洗液进行流动对高比容腐蚀箔进行冲刷并且对清洗箱内部的清洗液进行抽取对高比容腐蚀箔进行喷淋清洗，有效解决了高比容腐蚀箔进行清洗时只是浸泡在清洗液内部清洗效率较低需要进行多次清洗并且需要耗费大量清洗液的问题。
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公开(公告)号：CN222028960U
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202420583114.2
申请日：2024-03-22
Applicant: 扬州宏远电子股份有限公司
IPC: H01G9/048 , H01G9/00 , H01G13/00 , B23K26/38 , B23K26/142 , B01D46/10 , B01D46/42 , B01D53/00 , G01B21/02
Abstract: 本实用新型公开了一种低压高比容电极箔用成型设备，涉及电极箔技术领域，包括机架，所述机架的上表面一端固定连接有支撑架，所述机架的上表面中部固定连接有固定架，所述固定架的数量为两个，两个所述固定架呈对称分布，所述固定架的内侧上端活动转动连接有螺纹柱。本实用新型通过旋钮、螺纹柱与螺孔相适配，从而可以在使用时根据电极箔的厚度对固定架进行调节，通过主动辊与第二压带相适配，从而可以为电极箔的移动提供动力，通过电极箔的移动可以带动第一压带进行移动，通过棘柱和棘槽相适配从而可以防止电极箔往回移动，通过测距器、从动齿轮与齿管相适配从而可以对电极箔移动的距离进行检测。
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公开(公告)号：CN221970819U
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202420698421.5
申请日：2024-04-07
Applicant: 扬州宏远电子股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种低压高比容电极箔用放卷装置，涉及电极箔技术领域，包括底座，所述底座的上表面呈对称固定连接有立柱，两个所述立柱的一侧上端均固定连接有支撑块，两个所述支撑块的内侧同时贯穿并转动连接有支撑杆，所述支撑杆的一侧贯穿并转动连接有卷辊，所述卷辊的一侧缠绕并固定连接有电极箔，所述支撑杆的一端开设有卡槽，一侧的所述支撑块内侧开设有活动腔吗。本实用新型通过伸缩杆可以带动活动箱进行移动，通过多个液压缸可以带动箱盖进行升降，通过适配架可以适配不同粗细的电极箔卷，还可以使其放置后避免滚动，以此可以将电极箔卷向上推动，从而可以更加便于对新的电极箔卷进行安装。
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