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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102471892A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080034443.2
申请日：2010-08-02
Applicant: 新日本制铁株式会社 , 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C09D167/00 , B05D7/14 , B05D7/51 , C08K3/36 , C08K5/54 , C09D5/082 , C09D7/62 , C09D7/63
Abstract: 本发明提供一种预涂金属板用基底处理剂，其在水中含有作为固体成分的丹宁或丹宁酸、硅烷偶联剂和微粒二氧化硅、以及粒径为50～150nm、玻璃化转变温度Tg为0～30℃、且羟值为5～13的聚酯树脂，处理剂的pH为2.0～6.5。本发明提供一种在预涂金属板生产的长期的恒定状态下的实际操作中不会发生沉淀、并且稳定的预涂金属板用基底处理剂。
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公开(公告)号：CN102471892B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201080034443.2
申请日：2010-08-02
Applicant: 新日铁住金株式会社 , 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C09D167/00 , B05D7/14 , B05D7/51 , C08K3/36 , C08K5/54 , C09D5/082 , C09D7/62 , C09D7/63
Abstract: 本发明提供一种预涂金属板用基底处理剂，其在水中含有作为固体成分的丹宁或丹宁酸、硅烷偶联剂和微粒二氧化硅、以及粒径为50～150nm、玻璃化转变温度Tg为0～30℃、且羟值为5～13的聚酯树脂，处理剂的pH为2.0～6.5。本发明提供一种在预涂金属板生产的长期的恒定状态下的实际操作中不会发生沉淀、并且稳定的预涂金属板用基底处理剂。
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公开(公告)号：CN102264952A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200980153647.5
申请日：2009-12-10
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C25D11/04 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/06 , C25D11/12 , C25D11/26 , C25D11/30
Abstract: 本发明提供金属的电解陶瓷涂布方法、金属的电解陶瓷涂布用电解液以及金属材料。该电解陶瓷涂布用电解液含有：水，水溶性的锆化合物，络合剂，碳酸根离子，选自碱金属离子、铵离子以及有机碱的至少一种，所述锆化合物的含量以锆换算浓度(X)计为0.0001～1mol/L，所述络合剂的浓度(Y)为0.0001～0.3mol/L，所述碳酸根离子浓度(Z)为0.0002～4mol/L，所述络合剂的浓度(Y)相对于所述锆换算浓度(X)的比(Y/X)为0.01以上，所述碳酸根离子浓度(Z)相对于所述锆换算浓度(X)的比(Z/X)为2.5以上，导电率为0.2～20S/m以下。
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公开(公告)号：CN102264952B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN200980153647.5
申请日：2009-12-10
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C25D11/04 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/06 , C25D11/12 , C25D11/26 , C25D11/30
Abstract: 本发明提供金属的电解陶瓷涂布方法、金属的电解陶瓷涂布用电解液以及金属材料。该电解陶瓷涂布用电解液含有：水，水溶性的锆化合物，络合剂，碳酸根离子，选自碱金属离子、铵离子以及有机碱的至少一种，所述锆化合物的含量以锆换算浓度(X)计为0.0001～1mol/L，所述络合剂的浓度(Y)为0.0001～0.3mol/L，所述碳酸根离子浓度(Z)为0.0002～4mol/L，所述络合剂的浓度(Y)相对于所述锆换算浓度(X)的比(Y/X)为0.01以上，所述碳酸根离子浓度(Z)相对于所述锆换算浓度(X)的比(Z/X)为2.5以上，导电率为0.2～20S/m以下。
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公开(公告)号：CN101522957A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036437.9
申请日：2007-09-12
Applicant: 日本帕卡濑精株式会社
CPC classification number: C25D11/30 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/06 , C25D11/26 , C25D15/02 , H05K1/053
Abstract: 本发明提供金属的陶瓷被膜涂布方法，该方法对镁合金等各种金属基材形成致密的被膜，所得被膜的耐磨性优异，对配对材料的攻击性低，并且耐腐蚀性优异。该方法是在电解液中，以金属基体作为工作电极，在金属基体的表面上产生辉光放电和/或电弧放电的同时进行电解处理，在金属基体表面形成陶瓷被膜的金属的陶瓷被膜涂布方法，其中，电解液含有平均粒径1μm以下的氧化锆粒子，将电解液中的氧化锆粒子之含量表示为X，将氧化锆以外的选自Mg等至少1种元素的化合物之含量表示为Y时，满足下式(1)－(3)，pH为7.0以上，0.05g/L≤X≤500g/L(1)；0g/L≤Y≤500g/L(2)；0≤Y/X≤10(3)。
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