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发明公开
自沉积型用于铜的表面处理剂和带树脂被膜的含铜基材的制造方法无效

公开(公告)号：CN104246011A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201380020600.8

申请日：2013-04-17

Applicant: 日本帕卡濑精株式会社

Inventor： 森和彦 , 清水宏志 , 宫崎雅矢 , 南淳一

IPC: C23C22/52 , C23C22/82

CPC classification number: C09D5/086 , C23C22/34 , C23C22/83

Abstract: 本发明的目的在于，提供通过自沉积而能够在铜材料上形成密合性·耐腐蚀性·电特性优异的被膜、液体稳定性优异的自沉积型用于铜的表面处理剂。本发明的自沉积型用于铜的表面处理剂含有1～60质量份的水溶性或水分散性聚合物、30～99质量份的以水为主体的溶剂、和0.01～5质量份的铜络合剂，pH3.0时的氧化还原电位在-500～＋200mV（vs.SHE）的范围内。

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