金属材料用基底处理剂和金属材料的基底处理方法

    公开(公告)号:CN101868563B

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN200880116813.X

    申请日:2008-11-18

    Abstract: 本发明的目的在于提供无需使金属材料表面粗化、金属材料与预浸料等树脂的粘接性、特别是高温下的粘接性良好、且不使用6价铬等成为环境污染原因的物质、环境压力小、低成本的金属材料用基底处理剂;以及使用该金属材料用基底处理剂的、生产性优异、环境方面也有利的金属材料的基底处理方法;由该基底处理方法得到的带基底处理被膜的金属材料以及层合部件。本发明的金属材料用基底处理剂含有化合物(A)和至少一种弹性体(B),其中,化合物(A)选自化合物(A-1)和硫脲衍生物(A-2)的至少一种,化合物(A-1)具有1个以上的苯核,和选自羟基、羧基和氨基、与构成上述苯核的碳原子直接键合的2个以上的官能基团。

    金属材料用基底处理剂和金属材料的基底处理方法

    公开(公告)号:CN101868563A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200880116813.X

    申请日:2008-11-18

    Abstract: 本发明的目的在于提供无需使金属材料表面粗化、金属材料与预浸料等树脂的粘接性、特别是高温下的粘接性良好、且不使用6价铬等成为环境污染原因的物质、环境压力小、低成本的金属材料用基底处理剂;以及使用该金属材料用基底处理剂的、生产性优异、环境方面也有利的金属材料的基底处理方法;由该基底处理方法得到的带基底处理被膜的金属材料以及层合部件。本发明的金属材料用基底处理剂含有化合物(A)和至少一种弹性体(B),其中,化合物(A)选自化合物(A-1)和硫脲衍生物(A-2)的至少一种,化合物(A-1)具有1个以上的苯核,和选自羟基、羧基和氨基、与构成上述苯核的碳原子直接键合的2个以上的官能基团。

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