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公开(公告)号：CN104168989A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380014335.2
申请日：2013-02-01
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D71/021 , B01D61/362 , B01D63/066 , B01D67/0067 , B01D69/125 , B01D2323/40 , B01D2323/46 , B01D2325/04 , B01D2325/28
Abstract: 本发明提供一种分离膜的制造方法，可有效抑制分离膜厚度部分变厚的厚膜部的产生。分离膜的制造方法包括有，使分离膜的前体溶液31通过一体结构型基材1的孔单元2内，从而在孔单元2的表面形成由前体溶液31构成的分离膜前体3的制膜工序后，从一体结构型基材1的第一端面11上的孔单元2的开口部，对该孔单元2内进行抽吸，抽吸除去存在于孔单元2内的剩余的前体溶液31的孔单元抽吸工序。
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公开(公告)号：CN103501879B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201280020555.1
申请日：2012-04-12
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: B01D65/02
CPC classification number: B01D65/02 , B01D61/362 , B01D63/066 , B01D71/02 , B01D2321/10 , B01D2321/16 , B01D2321/18
Abstract: 提供一种能够缩短陶瓷过滤器的清洗所需的操作时间的陶瓷过滤器的清洗方法。该陶瓷过滤器的清洗方法通过一边将清洗用介质供给至清洗前的陶瓷过滤器的一次侧空间，一边对清洗前的陶瓷过滤器的二次侧空间减压，从而使清洗用介质通过清洗前的陶瓷过滤器，对清洗前的陶瓷过滤器进行清洗。
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公开(公告)号：CN101528330A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038810.4
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2323/28 , Y10T428/249956 , Y10T428/249957
Abstract: 本发明公开了一种以较少成膜次数形成的且具有较少的缺陷、小且均匀的厚度和高分辨率的陶瓷多孔膜，以及陶瓷过滤器。作为陶瓷多孔膜的二氧化硅膜(1)被形成在作为超滤膜(UF膜)的氧化钛UF膜(14)上，所述氧化钛UF膜被形成在是微滤膜(也称为MF膜)的多孔基体构件(11)上，并且具有比所述多孔基体构件(11)的平均孔径更小的平均孔径，所述二氧化硅膜具有比二氧化钛超滤膜(14)的平均孔径更小的平均孔径，并且部分二氧化硅膜渗入所述二氧化钛UF膜。
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公开(公告)号：CN101528329B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200780038792.X
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D2323/42
Abstract: 本发明提供一种薄的、均匀的且缺陷少的陶瓷多孔膜的制造方法，其以较少的成膜次数来成膜，以及含有该多孔膜的陶瓷过滤器的制造方法。在多孔基体构件(11)上形成平均孔径小于该多孔基体构件(11)的UF膜(14)，在UF膜(14)上沉积陶瓷溶胶(40)，通过吹气体来干燥陶瓷溶胶(40)，然后烧成，形成陶瓷多孔膜(1)，其平均孔径小于UF膜(14)的平均孔径。
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公开(公告)号：CN103501879A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280020555.1
申请日：2012-04-12
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: B01D65/02
CPC classification number: B01D65/02 , B01D61/362 , B01D63/066 , B01D71/02 , B01D2321/10 , B01D2321/16 , B01D2321/18
Abstract: 提供一种能够缩短陶瓷过滤器的清洗所需的操作时间的陶瓷过滤器的清洗方法。该陶瓷过滤器的清洗方法通过一边将清洗用介质供给至清洗前的陶瓷过滤器的一次侧空间，一边对清洗前的陶瓷过滤器的二次侧空间减压，从而使清洗用介质通过清洗前的陶瓷过滤器，对清洗前的陶瓷过滤器进行清洗。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101528328B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200780038784.5
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D71/02 , B01D67/0048 , B01D67/0095 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开一种陶瓷多孔膜和一种陶瓷过滤器，所述陶瓷多孔膜以较少膜形成次数形成且具有较少的缺陷、小且一致的厚度和高的流量。硅质膜(1)形成在二氧化钛UF膜(14)上，二氧化钛UF膜(14)作为超滤膜(UF膜)形成在多孔基件(11)上，多孔基件(11)是微滤膜(也称为MF膜)，二氧化钛UF膜(14)的平均孔径小于多孔基件(11)的平均孔径，且硅质膜(1)的平均孔径小于二氧化钛UF膜(14)的平均孔径，硅质膜(1)基本上没有渗透到二氧化钛UF膜中。
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公开(公告)号：CN101528327A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038702.7
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D67/0048 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开了一种薄且均匀的陶瓷过滤器的制备方法，具有较少的成膜次数和较少缺陷。将陶瓷溶胶与平均孔径0.05－10nm的陶瓷分离膜表面接触，再将带有陶瓷溶胶的陶瓷分离膜进行干燥，然后进行烧结，以修复陶瓷分离膜中的缺陷部分，其中所述陶瓷溶胶自身成膜后的平均孔径为10nm或更小。
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公开(公告)号：CN101528327B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200780038702.7
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D67/0048 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开了一种薄且均匀的陶瓷过滤器的制备方法，具有较少的成膜次数和较少缺陷。将陶瓷溶胶与平均孔径0.05-10nm的陶瓷分离膜表面接触，再将带有陶瓷溶胶的陶瓷分离膜进行干燥，然后进行烧结，以修复陶瓷分离膜中的缺陷部分，其中所述陶瓷溶胶自身成膜后的平均孔径为10nm或更小。
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公开(公告)号：CN101528330B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200780038810.4
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2323/28 , Y10T428/249956 , Y10T428/249957
Abstract: 本发明公开了一种以较少成膜次数形成的且具有较少的缺陷、小且均匀的厚度和高分辨率的陶瓷多孔膜，以及陶瓷过滤器。作为陶瓷多孔膜的二氧化硅膜(1)被形成在作为超滤膜(UF膜)的氧化钛UF膜(14)上，所述氧化钛UF膜被形成在是微滤膜(也称为MF膜)的多孔基体构件(11)上，并且具有比所述多孔基体构件(11)的平均孔径更小的平均孔径，所述二氧化硅膜具有比二氧化钛超滤膜(14)的平均孔径更小的平均孔径，并且部分二氧化硅膜渗入所述二氧化钛UF膜。
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公开(公告)号：CN101528329A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038792.X
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D2323/42
Abstract: 本发明提供一种薄的、均匀的且缺陷少的陶瓷多孔膜的制造方法，其以较少的成膜次数来成膜，以及含有该多孔膜的陶瓷过滤器的制造方法。在多孔基体构件(11)上形成平均孔径小于该多孔基体构件(11)的UF膜(14)，在UF膜(14)上沉积陶瓷溶胶(40)，通过吹气体来干燥陶瓷溶胶(40)，然后烧成，形成陶瓷多孔膜(1)，其平均孔径小于UF膜(14)的平均孔径。
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