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公开(公告)号：CN1162131A
公开(公告)日：1997-10-15
申请号：CN97102492.8
申请日：1997-02-20
Applicant: 旭化成工业株式会社
Inventor： 吉田正宏 , 藤冈健治
IPC: G03F7/32
CPC classification number: G03F7/32
Abstract: 一种用于光敏树脂印板的显影剂，含有一种显影溶液和一种能够在采用有源辐射照射的情况下从化合物中吸收氢原子的夺氢剂，和一种用于制备光敏树脂印板的方法，包括将已曝光的光敏树脂采用上述显影剂显影，之后采用有源辐射照射制成的固化印板的表面。
