公开(公告)号：CN116256946A

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN202211575269.3

申请日：2022-12-08

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 岩间翔太 ,  小仓知士 ,  清水建树

IPC: G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  G03F7/023 ,  C09D179/08 ,  G03F7/26 ,  C08L77/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/037 ,  G03F7/027 ,  G03F7/022

Abstract: 一种感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法和半导体装置。提供获得在铜或铜合金上也具有高密合性、迁移受到抑制的固化膜的感光性树脂组合物、使用其来制造固化浮雕图案的方法和半导体装置。一种负型感光性树脂组合物，其包含：(A)含有聚酰亚胺前体、聚酰亚胺或这两者的树脂；(B)光聚合引发剂；以及(C)含氮杂环化合物。上述(C)含氮杂环化合物为选自通式(4)和(5)的化合物中的至少一者。

公开(公告)号：CN116710498A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202280009745.7

申请日：2022-01-12

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 村上航平 ,  小仓知士

IPC: C08F290/14

Abstract: 本公开的目的在于，提供分辨性能优异、能使用的曝光量范围宽、处理性优异的PI前体树脂组合物的制造方法。提供含有聚酰亚胺(PI)前体树脂、曝光光线吸收剂、光聚合引发剂及溶剂的PI前体树脂组合物的制造方法。从对光线种类的吸光度参数Xp处于0.001～0.20的范围的材料中选择PI前体树脂，从对光线种类的吸光度参数Xt处于0.01～0.05的范围的材料中选择曝光光线吸收剂，从对光线种类的吸光度参数Xr处于0～0.04的范围的材料中选择光聚合引发剂。基于将PI前体树脂组合物涂布成膜并脱溶剂而成的膜的设想厚度D以满足下式的方式确定曝光光线吸收剂的添加质量份α和光聚合引发剂的添加质量份β。0.7≤(Xp+Xt×α+Xr×β)×D≤2.2。

公开(公告)号：CN104641293B

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201380048156.0

申请日：2013-09-13

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 本多正树 ,  金田隆行 ,  吉田雅彦 ,  汤之口智恵 ,  小仓知士

IPC: G03F7/023 ,  C08G8/20 ,  C08G69/26

Abstract: 提供显影残膜率较高且为高感光度，显影后的表面均匀的感光性树脂组合物。一种正型感光性树脂组合物，其含有：(a)以下述通式(1)表示的结构单元作为主要成分的聚合物(式中，R1和R2分别独立地表示碳数2～60的2价～8价的有机基团，R3、R4、R5以及R6分别独立地表示氢原子或碳数1～20的1价的有机基团，d和e分别独立地为0～2的整数且不同时为0，f和g分别独立地为0～4的整数，且n为正整数)；(b)二叠氮基醌化合物；以及(c)特定结构的酚醛树脂。

公开(公告)号：CN109298601A

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：CN201811250571.5

申请日：2013-09-13

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 本多正树 ,  金田隆行 ,  吉田雅彦 ,  汤之口智恵 ,  小仓知士

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 提供显影残膜率较高且为高感光度，显影后的表面均匀的感光性树脂组合物。还提供由该感光性树脂组合物形成的一种固化膜。一种正型感光性树脂组合物，其含有：(a)以下述通式(1)表示的结构单元作为主要成分的聚合物(式中，R1和R2分别独立地表示碳数2～60的2价～8价的有机基团，R3、R4、R5以及R6分别独立地表示氢原子或碳数1～20的1价的有机基团，d和e分别独立地为0～2的整数且不同时为0，f和g分别独立地为0～4的整数，且n为正整数)；(b)二叠氮基醌化合物；以及(c)特定结构的酚醛树脂。

公开(公告)号：CN116256943A

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN202211574701.7

申请日：2022-12-08

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 岩间翔太 ,  小仓知士 ,  清水建树

IPC: G03F7/004 ,  H01L23/29 ,  G03F7/038 ,  C08G73/10

Abstract: 一种负型感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法和半导体装置。本发明提供感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物来形成图案的固化浮雕图案的制造方法、以及半导体装置，所述感光性树脂组合物不会因低温保管而发生析出，且赋予在铜或铜合金上也具有高密合性、迁移受到抑制的固化膜。提供一种负型感光性树脂组合物，其包含(A)选自(A1)聚酰亚胺前体和(A2)聚酰亚胺中的至少1种树脂、(B)光聚合引发剂、(C)作为含氮杂环式化合物的四唑化合物、以及(D)溶剂，前述感光性树脂组合物还含有防止前述(C)含氮杂环式化合物析出的(E)抗析出剂，且前述(E)抗析出剂的汉森溶解度参数(HSP)为以下的范围：△D：15.2～21.2△P：8.9～14.9△H：9.0～14.3。