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公开(公告)号：CN104884399B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201380068423.0
申请日：2013-12-27
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的玻璃板的制造方法。本发明涉及玻璃板的制造方法，其为包括将玻璃原料熔解的工序、将由所述工序熔融的玻璃漂浮在熔融金属上的同时成形为玻璃带的工序、将所述玻璃带缓慢冷却的工序的浮法玻璃板的制造方法，所述浮法玻璃板含有SiO263～73％、Al2O3 0.1～5.2％、Na2O 10～16％、K2O 0～1.5％、MgO 5～13％及CaO 4～10％(摩尔％)，所述成形工序中，对于与所述玻璃带的与熔融金属接触的底面相对的顶面，在浮抛窑内实施1～30秒脱碱处理，设定所述脱碱处理时的所述玻璃带的表面温度为600℃以上。
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公开(公告)号：CN105143132B
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201480023330.0
申请日：2014-04-23
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种利用浮法制造平板玻璃时，通过在线处理从玻璃表面除去锡缺陷而得到平滑的表面的浮法平板玻璃制造方法。本发明涉及一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以各自满足规定条件的方式喷雾到玻璃带表面上。
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公开(公告)号：CN105143132A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480023330.0
申请日：2014-04-23
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种利用浮法制造平板玻璃时，通过在线处理从玻璃表面除去锡缺陷而得到平滑的表面的浮法平板玻璃制造方法。本发明涉及一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以各自满足规定条件的方式喷雾到玻璃带表面上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104884399A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380068423.0
申请日：2013-12-27
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供能够有效地抑制化学强化后的翘曲、并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的玻璃板的制造方法。本发明涉及玻璃板的制造方法，其为包括将玻璃原料熔解的工序、将由所述工序熔融的玻璃漂浮在熔融金属上的同时成形为玻璃带的工序、将所述玻璃带缓慢冷却的工序的浮法玻璃板的制造方法，所述浮法玻璃板含有SiO2 63～73％、Al2O3 0.1～5.2％、Na2O 10～16％、K2O 0～1.5％、MgO 5～13％及CaO 4～10％(摩尔％)，所述成形工序中，对于与所述玻璃带的与熔融金属接触的底面相对的顶面，在浮抛窑内实施1～30秒脱碱处理，设定所述脱碱处理时的所述玻璃带的表面温度为600℃以上。
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公开(公告)号：CN108455869A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201810153967.1
申请日：2018-02-22
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及显示器用玻璃基板、以及显示器用玻璃基板的制造方法。本发明提供一种在从吸附台剥离时不易发生剥离带电的显示器用玻璃基板、及其制造方法。一种显示器用玻璃基板，其特征在于，将从玻璃基板的与半导体元件形成面相反侧的玻璃表面起算的深度0nm～10nm范围内的氟浓度(摩尔％)的平均值设为F0-10nm、将从该玻璃表面起算的深度100nm～400nm范围内的氟浓度(摩尔％)的平均值设为F100-400nm时，F0-10nm/F100-400nm≥3，并且所述与半导体元件形成面相反侧的玻璃表面的表面粗糙度Ra为0.3nm以上。
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公开(公告)号：CN108349787A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063213.6
申请日：2016-10-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种显示器用玻璃基板，其中，所述显示器用玻璃基板含有SiO2以及Al2O3，所述显示器用玻璃基板的Si量之比为0.9以下，所述Si量之比为从玻璃基板的与半导体元件形成面相反侧的玻璃表面起算深度0nm～30nm范围内的Si量(原子％)的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的Si量(原子％)之比，并且所述显示器用玻璃基板的Al量之比为1.0～7.4，所述Al量之比为从所述玻璃表面起算深度0nm～30nm范围内的Al量(原子％)的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的Al量(原子％)之比。
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公开(公告)号：CN106242251A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610388134.4
申请日：2016-06-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B18/02
Abstract: 本发明涉及浮法玻璃制造方法和浮法玻璃制造装置。本发明涉及浮法玻璃制造方法，其具有：将玻璃原料熔化的熔化工序、将熔化后的玻璃澄清的澄清工序、将澄清后的熔融玻璃连续地供给至浮抛窑(2)的熔融金属(9)上并且在熔融金属(9)上成形玻璃带(5)的成形工序、以及利用提升辊(7)将玻璃带(5)从浮抛窑(2)拉出并且将玻璃带(5)在利用退火辊(8)运送的同时缓冷至玻璃的应变点温度以下的缓冷工序；其特征在于，缓冷工序包括：使用在退火辊(8)之间且设置在玻璃带(5)的下方的喷射器(20)、(30)，将含有卤素的气体供给至玻璃带(5)的底面(5a)，由此除去附着于底面(5a)的异物的异物除去工序。
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公开(公告)号：CN105523704A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201510688876.4
申请日：2015-10-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: Y02P40/57 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C23/00
Abstract: 本发明涉及一种浮法平板玻璃制造方法及浮法平板玻璃，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，以分别满足下述式(1)～(4)所示的条件的方式向玻璃带表面喷雾含有HCl的气体和含有HF的气体：(6.92u1+15.8)c1·t1·exp(-4303/T1)＞r (1)，式(1)中，c1为含有HCl的气体的HCl浓度[体积％]，u1为含有HCl的气体的流速(线速度)[cm/s]，t1为含有HCl的气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面存在的锡缺陷的半径[μm]；(6.92u2+15.8)c2·t2·exp(-4303/T2)＞r (2)，式(2)中，c2为含有HF的气体的HF浓度[体积％]，u2为含有HF的气体的流速(线速度)[cm/s]，t2为含有HF的气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面存在的锡缺陷的半径[μm]；0＜c1/c2≤99 (3)；0.05≤c2＜10 (4)。
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