公开(公告)号：CN105555730A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480051561.2

申请日：2014-11-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 鹿岛出 ,  藤原祐辅 ,  玉井喜芳 ,  日野启吾

IPC: C03C21/00

CPC classification number: C03C21/002

Abstract: 本发明涉及一种玻璃化学强化用熔融盐的再生方法，其是一种化学强化用熔融盐的再生方法，其中，包括：将玻璃化学强化处理后的熔融盐在低于所述熔融盐的熔点的温度下溶解在水中的工序、将得到的水溶液冷却而得到再生盐的工序、和通过干燥使所述再生盐中的水分量低于5质量％的工序。

公开(公告)号：CN1930521A

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：CN200580006953.8

申请日：2005-03-04

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 菊川信也 ,  日野启吾 ,  三代均

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  C03C3/06

CPC classification number: G03F7/70966 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/31616

Abstract: 提供了一种具有低的双折射、可以使用偏振辐照或进行浸没曝光的光掩模基片。一种由合成石英玻璃制成的光掩模基片，该基片用来使用具有最多约200纳米的曝光波长的光源制造半导体，该基片在曝光波长下的双折射最多为1纳米/6.35毫米，使用照度为13.2毫瓦/厘米2的Xe准分子灯辐照之前和辐照20分钟之后，该基片的透光度减少量，即波长217纳米处的透光度之差最多为1.0％。

公开(公告)号：CN105555730B

公开(公告)日：2018-09-18

申请号：CN201480051561.2

申请日：2014-11-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 鹿岛出 ,  藤原祐辅 ,  玉井喜芳 ,  日野启吾

IPC: C03C21/00

Abstract: 本发明涉及一种玻璃化学强化用熔融盐的再生方法，其是一种化学强化用熔融盐的再生方法，其中，包括：将玻璃化学强化处理后的熔融盐在低于所述熔融盐的熔点的温度下溶解在水中的工序、将得到的水溶液冷却而得到再生盐的工序、和通过干燥使所述再生盐中的水分量低于5质量％的工序。