公开(公告)号：CN102171181A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200980138953.1

申请日：2009-10-01

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 山上功 ,  前田喜彦 ,  安田浩 ,  室伏克己

IPC: C07C271/24 ,  C07C269/00 ,  C07C269/02 ,  C07D211/14 ,  C07D295/20

CPC classification number: C07D295/205 ,  C07C269/00 ,  C07C269/02 ,  C07C271/24 ,  C07D211/06 ,  C07D211/16 ,  C07D317/52 ,  C07D317/62

Abstract: 本发明的目的在于提供，代替现有的2-硝基-4，5-二甲氧基苄基氧基羰基胺化合物的、能够对h线的灵敏度也良好地产生碱的新的光产碱剂。本发明涉及下述通式(I)所示的N-(α-芳香基取代-2-硝基-4，5-二烷氧基苄基氧基羰基)胺化合物。(上述式(I)中，R1～R9表示特定的基团)。

公开(公告)号：CN114929668A

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202180008101.1

申请日：2021-01-04

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 若林智光 ,  前田喜彦

IPC: C07C263/16 ,  C07C263/10 ,  C07C265/04 ,  C07B61/00

Abstract: 本发明的目的是使具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯化合物中包含的二烷基氨基甲酰氯的含量减少。本发明包含具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯化合物的制造方法，其包含下述工序：工序(2)，在N‑二取代甲酰胺化合物(A)的存在下，使规定的化合物(B)与光气接触，获得光气反应物；以及工序(3)，使在上述工序(2)中获得的光气反应物与羟基胺盐酸盐化合物接触，获得规定的具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯化合物，二烷基氨基甲酰氯的含量为0.1质量％以下。