公开(公告)号：CN1547462A

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：CN02800091.9

申请日：2002-01-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 伊藤直子 ,  加藤詠子 ,  続木敏

IPC: A61K7/06

CPC classification number: A61Q5/00 ,  A61K8/676 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 本发明的目的是提供一种具有高脱氯能力、高羟基自由基清除能力、优异的皮肤安全性、低刺激以及从制剂的制备角度要求的足够高的储存稳定性的头发处理剂，还提供了使用该头发处理剂的头发护理组合物。此处公开的是含有作为有效成分且为式(1)所示化合物的抗坏血酸衍生物或其盐的头发处理剂，其中R1、R2、R3和R4各自独立地代表羟基、从羟基和有机基团或无机基团衍生而来的含有酯键的基团或葡糖苷基；或者R1和R2，或者R3和R4可以一起形成从两个相邻的羟基和醛或酮衍生而来的二价基团，只要R1和R2不同时为羟基，以及含有头发处理剂的头发护理组合物。