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公开(公告)号:CN111566077A
公开(公告)日:2020-08-21
申请号:CN201880085962.8
申请日:2018-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08 , C07B61/00
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃的原料液(1)导入氟气并且以气体状导入反应诱导剂来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示并且不具有碳-碳不饱和键。反应诱导剂通过与氟气反应而诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应,并且是选自在常温常压下为气体的烃和氢气中的至少一种。
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公开(公告)号:CN111587234A
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN201880085975.5
申请日:2018-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08 , C07B61/00
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃和反应诱导剂的原料液(1)导入氟气来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示并且不具有碳-碳不饱和键。反应诱导剂是在常温常压下为固体的烃聚合物,并且通过与氟气反应而诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应。
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公开(公告)号:CN111566077B
公开(公告)日:2023-03-24
申请号:CN201880085962.8
申请日:2018-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08 , C07B61/00
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃的原料液(1)导入氟气并且以气体状导入反应诱导剂来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示并且不具有碳‑碳不饱和键。反应诱导剂通过与氟气反应而诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应,并且是选自在常温常压下为气体的烃和氢气中的至少一种。
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公开(公告)号:CN111479794B
公开(公告)日:2023-02-17
申请号:CN201880081493.2
申请日:2018-12-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃和反应诱导剂的原料液导入氟气来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示,并且不具有碳‑碳不饱和键。反应诱导剂是在常温常压下为液体的含卤素的碳化合物,并且通过与氟气反应,诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应。在将原料液含有的氟化烃和反应诱导剂的合计设为100质量%时,反应诱导剂的含量大于0质量%且为10质量%以下。
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公开(公告)号:CN108779191A
公开(公告)日:2018-11-09
申请号:CN201780015052.8
申请日:2017-02-02
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C08F2/40 , C08F2/46 , C08F220/10
CPC classification number: C08F2/40 , C08F2/46 , C08F220/10
Abstract: 本发明提供具有优异的保存稳定性的活性能量射线固化性组合物。活性能量射线固化性组合物含有:具有烯属不饱和双键的活性能量射线固化性化合物(A)、1分子中具有2个以上巯基的硫醇化合物(B)、能够抑制烯属不饱和双键与巯基反应的反应抑制剂(C)、自由基聚合抑制剂(D)、和水(E),水(E)的含量为0.05质量ppm以上且小于1质量%。在将活性能量射线固化性化合物(A)与硫醇化合物(B)的合计含量设为100质量份的情况下,反应抑制剂(C)的含量为0.005质量份以上且10质量份以下。在将活性能量射线固化性化合物(A)与硫醇化合物(B)的合计含量设为100质量份的情况下,自由基聚合抑制剂(D)的含量为0.005质量份以上且5质量份以下。
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公开(公告)号:CN111587234B
公开(公告)日:2023-04-04
申请号:CN201880085975.5
申请日:2018-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08 , C07B61/00
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃和反应诱导剂的原料液(1)导入氟气来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示并且不具有碳‑碳不饱和键。反应诱导剂是在常温常压下为固体的烃聚合物,并且通过与氟气反应而诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应。
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公开(公告)号:CN108779191B
公开(公告)日:2021-06-22
申请号:CN201780015052.8
申请日:2017-02-02
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C08F2/40 , C08F2/46 , C08F220/10
Abstract: 本发明提供具有优异的保存稳定性的活性能量射线固化性组合物。活性能量射线固化性组合物含有:具有烯属不饱和双键的活性能量射线固化性化合物(A)、1分子中具有2个以上巯基的硫醇化合物(B)、能够抑制烯属不饱和双键与巯基反应的反应抑制剂(C)、自由基聚合抑制剂(D)、和水(E),水(E)的含量为0.05质量ppm以上且小于1质量%。在将活性能量射线固化性化合物(A)与硫醇化合物(B)的合计含量设为100质量份的情况下,反应抑制剂(C)的含量为0.005质量份以上且10质量份以下。在将活性能量射线固化性化合物(A)与硫醇化合物(B)的合计含量设为100质量份的情况下,自由基聚合抑制剂(D)的含量为0.005质量份以上且5质量份以下。
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公开(公告)号:CN111479794A
公开(公告)日:2020-07-31
申请号:CN201880081493.2
申请日:2018-12-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/361 , C07C19/08
Abstract: 提供一种四氟甲烷的制造方法,其难以损坏反应装置,能够安全且廉价地稳定制造四氟甲烷。向含有氟化烃和反应诱导剂的原料液导入氟气来制造四氟甲烷,氟化烃由化学式CpHqClrFs(化学式中的p为3以上且18以下的整数,q为0以上且3以下的整数,r为0以上且9以下的整数,s为5以上且30以下的整数)表示,并且不具有碳-碳不饱和键。反应诱导剂是在常温常压下为液体的含卤素的碳化合物,并且通过与氟气反应,诱导由氟化烃和氟气生成四氟甲烷的反应。在将原料液含有的氟化烃和反应诱导剂的合计设为100质量%时,反应诱导剂的含量大于0质量%且为10质量%以下。
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