公开(公告)号：CN113218344A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN202110108656.5

申请日：2021-01-27

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 岛田航弥 ,  藏田洋志 ,  吉田升平 ,  白石惠一

IPC: G01B15/02 ,  G01N23/04 ,  H01M8/1004

Abstract: 本发明提供一种膜电极构造体(1)的检查方法，包括下述工序：第1工序，其将能够检测第1电极催化剂层(12)及第2电极催化剂层(22)的元素和金属异物(40)的元素的检测介质沿着从第1电极层(12)侧朝向第2电极层(22)侧的厚度方向发送，获得检测信号的厚度方向分布；以及第2工序，其利用解析单元根据厚度方向分布中的检测信号的强度来确定金属异物(40)在厚度方向上的位置，并且，利用解析单元根据厚度方向分布中的检测信号的强度来确定第1电极催化剂层(12)及第2电极催化剂层(22)或电解质膜(30)在厚度方向上的位置。

公开(公告)号：CN109579750B

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201811152013.5

申请日：2018-09-29

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 赤堀重人 ,  吉田升平 ,  长谷川聪志 ,  玉井知子 ,  横井麻衣

IPC: G01B15/02

Abstract: 本发明提供一种电解质膜的膜厚测定方法及其装置。电解质膜用膜厚测定装置(30)具有放射检测介质(42)的检测介质发送部(44)、检测金属催化剂的检测部(46)和分析机构(34)。分析机构(34)根据在由检测部(46)生成的检测信号的厚度方向曲线中的强度，求出该厚度方向曲线中的第一拐点和第二拐点。分析机构(34)进一步将从第一拐点至第二拐点的距离评价为电解质膜(16)的膜厚。根据本发明，能够通过非破坏检查来测定膜电极组件中的电解质膜的膜厚，并且能够实际使用测定电解质膜的膜厚后的膜电极组件。

公开(公告)号：CN109579750A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811152013.5

申请日：2018-09-29

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 赤堀重人 ,  吉田升平 ,  长谷川聪志 ,  玉井知子 ,  横井麻衣

IPC: G01B15/02

Abstract: 本发明提供一种电解质膜的膜厚测定方法及其装置。电解质膜用膜厚测定装置(30)具有放射检测介质(42)的检测介质发送部(44)、检测金属催化剂的检测部(46)和分析机构(34)。分析机构(34)根据在由检测部(46)生成的检测信号的厚度方向曲线中的强度，求出该厚度方向曲线中的第一拐点和第二拐点。分析机构(34)进一步将从第一拐点至第二拐点的距离评价为电解质膜(16)的膜厚。根据本发明，能够通过非破坏检查来测定膜电极组件中的电解质膜的膜厚，并且能够实际使用测定电解质膜的膜厚后的膜电极组件。

公开(公告)号：CN113218344B

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202110108656.5

申请日：2021-01-27

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 岛田航弥 ,  藏田洋志 ,  吉田升平 ,  白石惠一

IPC: G01B15/02 ,  G01N23/04 ,  H01M8/1004

Abstract: 本发明提供一种膜电极构造体(1)的检查方法，包括下述工序：第1工序，其将能够检测第1电极催化剂层(12)及第2电极催化剂层(22)的元素和金属异物(40)的元素的检测介质沿着从第1电极层(12)侧朝向第2电极层(22)侧的厚度方向发送，获得检测信号的厚度方向分布；以及第2工序，其利用解析单元根据厚度方向分布中的检测信号的强度来确定金属异物(40)在厚度方向上的位置，并且，利用解析单元根据厚度方向分布中的检测信号的强度来确定第1电极催化剂层(12)及第2电极催化剂层(22)或电解质膜(30)在厚度方向上的位置。