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公开(公告)号:CN1043961A
公开(公告)日:1990-07-18
申请号:CN89105513.4
申请日:1989-08-21
Applicant: 机械电子工业部北京机械工业自动化研究所
IPC: C23C14/32
Abstract: 本发明应用磁控电弧离子镀膜装置,以磁场控制的电弧燃烧使各种金属、合金等镀膜材料蒸发,电离,变成高能量、高密度的等离子体,在工件负偏压的条件下,与通入的氧气、乙炔气等反应,可在金属或非金属工件上产生不同颜色的金属或化合物薄膜沉积。本发明可镀工件范围广,特别是用于工艺品镀膜,色彩鲜艳,耐用抗磨,成本低,生产效率高,有广泛的使用领域。
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公开(公告)号:CN1053645A
公开(公告)日:1991-08-07
申请号:CN90100341.7
申请日:1990-01-24
Applicant: 机械电子工业部北京机械工业自动化研究所
Abstract: 掺金离子镀氮化钛技术及设备属于真空离子镀技术领域。本发明的目的在于提供一种新的,低成本,高质量的掺金氮化钛镀膜方法。镀黄金制品成本高,不耐磨。一般仿金制品效果差,且不耐磨,氮化钛仿金耐磨但发青色与黄金色有区别。本发明利用离子镀技术实现氮化钛掺金,膜层有黄金一样的光泽,还具有一定耐磨性能。
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