一种硅基三维异构集成的射频微系统及其制造方法

    公开(公告)号:CN108083223A

    公开(公告)日:2018-05-29

    申请号:CN201810034938.3

    申请日:2018-01-15

    CPC classification number: B81B7/0032 B81C1/00349

    Abstract: 本发明公开了一种硅基三维异构集成的射频微系统及其制造方法,本发明中的系统包括第一硅衬底层、第二硅衬底层、第三硅衬底层、第四硅衬底层、射频功放芯片、射频低噪放芯片、射频滤波器和射频开关,硅衬底层均为高阻硅晶圆,射频芯片和器件为采用不同衬底材料不同工艺制成;其中,把射频芯片和器件微组装在第一硅衬底层、第三硅衬底层内预先蚀刻好的腔体中,且第一硅衬底层、第二硅衬底层、第三硅衬底层和第四硅衬底层做低温晶圆级键合堆叠在一起,并通过硅通孔垂直互连,形成三维异构集成的射频微系统。本发明将异构射频芯片和器件进行三维集成,从而减小射频系统的体积,提高射频系统的封装密度,降低互连线的传输损耗,增强射频系统的性能。

    一种硅基三维异构集成的射频微系统

    公开(公告)号:CN207861877U

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201820060293.6

    申请日:2018-01-15

    Abstract: 本实用新型公开了一种硅基三维异构集成的射频微系统。本实用新型中的系统包括第一硅衬底层、第二硅衬底层、第三硅衬底层、第四硅衬底层、射频功放芯片、射频低噪放芯片、射频滤波器和射频开关,硅衬底层均为高阻硅晶圆,射频芯片和器件为采用不同衬底材料不同工艺制成;其中,把射频芯片和器件微组装在第一硅衬底层、第三硅衬底层内预先蚀刻好的腔体中,且第一硅衬底层、第二硅衬底层、第三硅衬底层和第四硅衬底层做低温晶圆级键合堆叠在一起,并通过硅通孔垂直互连,形成三维异构集成的射频微系统。本实用新型将异构射频芯片和器件进行三维集成,从而减小射频系统的体积,提高射频系统的封装密度,降低互连线的传输损耗,增强射频系统的性能。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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